[发明专利]制造具有彩色表面的涂层的方法

权利要求书

1.一种用于制造涂覆基材体的方法，其具有包括彩色涂覆表面的涂层，该方法包括以下步骤：

a)在真空涂覆室的内部提供一个基材体或多个基材体，所述基材体包括一个或更多个的待涂覆基材表面，

b)在步骤a)执行之后，在所述一个或更多个的待涂覆基材表面上沉积涂层，其中，该涂层的沉积牵涉到金属层的沉积，其中，如果所沉积的涂层包含其它层，则该金属层作为顶层被沉积，

c)在步骤b)执行之后，通过该金属层的阳极氧化形成所述彩色涂覆表面，

其特征是，

该金属层作为包含至少两种不同金属的单个金属层被沉积，并且所述阳极氧化发生在碱性电解液池中，碱性电解液池的pH值在12至14之间，其中，所述一个或更多个的待涂覆基材表面作为阳极被连接并且该碱性电解液池含有氢氧化钠；

该金属层由以下物质组成：

-钛铝混合物，或

-AlTi合金，或

-钛硅混合物，或

-铝硅混合物，

或

该金属层包含以下物质：

-铝铬混合物，或

-含锆的金属的混合物，或

-含铌的金属的混合物，或

-含钽的金属的混合物，或

-含铬的金属的混合物，

并且其中，该碱性电解液池是氢氧化钠水溶液，其NaOH浓度不低于0.5重量百分比且不高于0.6重量百分比。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征是，碱性电解液池的pH值在12.5至13.5之间。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征是，在步骤b)中，至少一个非金属层被沉积在所述一个或更多个的待涂覆基材表面与所述单个金属层之间，其中，该单个金属层被直接沉积在所述至少一个非金属层上。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，利用PVD技术沉积该金属层。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，利用磁控溅射技术沉积该金属层。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，通过使用HiPIMS技术沉积该金属层。

7.根据权利要求5所述的方法，其中，该金属层利用包括使用微粒过滤系统的电弧离子镀技术沉积。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，该阳极氧化电压被选择为低于200伏。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征是，该金属层由铝铬混合物组成。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征是，该金属层由以下物质组成：

-含锆的金属的混合物，或

-含铌的金属的混合物，或

-含钽的金属的混合物，或

-含铬的金属的混合物。

11.根据权利要求1所述的方法，其特征是，该金属层被沉积为具有容许使用期望的阳极氧化电压的厚度，其中该阳极氧化从金属层外表面作用到不大于金属层总厚度的穿透深度。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征是，该阳极氧化从金属层外表面作用到与金属层总厚度相同的穿透深度。

13.根据权利要求1所述的方法，其特征是，阳极氧化之后所获得的彩色表面的镜面反射光泽度与在先沉积的金属层的表面质量相关。