[发明专利]优化测量照射光斑相对于衬底上的目标的位置和/或尺寸的方法和相关设备

权利要求书

1.一种在检查设备内对测量照射光斑相对于衬底上的目标的位置和/或大小进行优化的方法，所述方法包括：

针对在所述衬底的平面上所述测量照射光斑相对于所述目标的不同大小和/或位置，检测因照射所述目标而产生的来自至少所述目标和目标周围的散射辐射的特性；以及

基于所检测到的散射辐射的特性，优化所述测量照射光斑相对于所述目标的位置和/或大小，其中所述优化包括基于所述特性来优化所述测量照射光斑相对于所述目标的对准位置。

2.根据权利要求1所述的方法，其中优化步骤包括优化所述测量照射光斑相对于所述目标的大小，所述测量照射光斑的大小取决于所述测量照射光斑在所述目标上的聚焦，所述方法还包括：

针对所述测量照射光斑在所述目标上的不同聚焦设置来检测所述散射辐射；和

基于针对不同聚焦设置中每个聚焦设置所检测到的散射辐射的特性的比较来选择最佳聚焦设置。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所检测到的散射辐射的特性是强度。

4.根据权利要求2或3所述的方法，其中最佳聚焦设置对应于针对所检测到的散射辐射的特性的最高值或最低值。

5.根据权利要求2或3所述的方法，其中所述方法还包括执行针对所述测量照射光斑在所述目标上的不同聚焦设置来检测所述散射辐射的所述步骤；以及基于来自不同部位的所检测到的散射辐射的特性来选择所述最佳聚焦设置。

6.根据权利要求5所述的方法，还包括：针对不同聚焦设置中每个聚焦设置，确定在所检测到的散射辐射的特性与所述测量照射光斑相对于所述目标的位置之间的关系的峰值的宽度；以及

基于针对不同聚焦设置中每个聚焦设置的所述峰值的宽度的比较来选择最佳聚焦设置。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所检测到的散射辐射的特性是所述散射辐射的强度。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述散射辐射的强度包括一个或更多个检测到的非零衍射阶的强度。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其中所述检测步骤包括在所述测量照射光斑移动到所述目标、稳定于所述目标上并且移动远离所述目标的采集时间段内，在不同采样情况下检测来自所述目标的散射辐射。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，在单个采集时间段内，所述对准位置针对衬底的平面的两个正交方向被优化，在此期间，所述照射光斑移动到所述目标的方向和照射光斑移动远离所述目标的方向相互正交。

11.根据权利要求10所述的方法，其中在单独的采集时间段中，针对衬底的平面的正交方向中的每个方向优化所述对准位置。

12.根据权利要求9所述的方法，其中还包括：

针对在所述采集时间段内采集的多个图像来重构对准误差，所述多个图像包括当所述测量照射光斑移动到所述目标和/或移动远离所述目标时采集的图像；

校正所述测量照射光斑在所述多个图像中每个图像上的定位；和

将所述多个图像集成到最终图像中。

13.根据权利要求7所述的方法，包括：检测所述衬底的位置并且在所述优化步骤中使用检测到的衬底的位置。

14.根据权利要求7所述的方法，其中所述优化步骤包括重构对准误差，所述对准误差是实际对准位置与期望对准位置的差。