[发明专利]清扫机构和具备该清扫机构的清扫装置在审

专利信息
申请号: 201880066519.6 申请日: 2018-10-11
公开(公告)号: CN111201416A 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 上田昌明;牛本隆雄;牧恒男;池田孝义 申请(专利权)人: 日立造船株式会社
主分类号: F28G3/14 分类号: F28G3/14;B08B9/023;F22B37/48;F23J3/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 张晶;谢顺星
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 清扫 机构 具备 装置
【权利要求书】:

1.一种清扫机构,其一边在管组内行进一边对包含于所述管组的管的表面进行清扫,其特征在于,具备:

旋转轴,其绕规定的旋转轴线旋转;以及

接触部,其通过与所述管的表面接触而去除所述管的表面的附着物,

所述接触部

以能够利用所述旋转轴的离心力向以所述旋转轴线为中心的半径方向外侧扩张的方式连结于所述旋转轴,

且当通过所述管的横侧时,一边仿照所述管的表面形状来变更在所述半径方向上的扩张,一边与所述管的表面接触。

2.一种清扫机构,其对包含于管组的管的表面进行清扫,其特征在于,具备:

旋转轴,其绕规定的旋转轴线旋转;以及

接触部,其通过与所述管的表面接触而去除所述管的表面的附着物,

所述接触部可摆动地连结于与所述旋转轴一体地进行旋转的摆动轴,并可利用所述旋转轴的离心力绕所述摆动轴进行摆动,向以所述旋转轴线为中心的半径方向外侧扩张。

3.根据权利要求1或2所述的清扫机构,其特征在于,

还具备与所述旋转轴线同轴地设置的圆板,

所述接触部收纳于所述圆板的外周缘的内侧,另一方面,在利用所述旋转轴的离心力扩张的情况下,相对于所述圆板的外周缘向外侧突出。

4.根据权利要求2所述的清扫机构,其特征在于,

还具备与所述旋转轴线同轴地设置的圆板,

所述接触部

收纳于所述圆板的外周缘的内侧,另一方面,在利用所述旋转轴的离心力扩张的情况下,相对于所述圆板的外周缘向外侧突出,

在收纳于所述圆板的外周缘的内侧的状态下,所述接触部的前端部相对于所述摆动轴位于所述旋转轴的旋转方向上的后方。

5.根据权利要求1至4中任一所述的清扫机构,其特征在于,

还具备挖掘部,该挖掘部设置在所述旋转轴线上且与所述接触部相比更靠近前端侧。

6.根据权利要求1至5中任一所述的清扫机构,其特征在于,

还具备引导部,当所述清扫机构在所述管组内行进时,所述引导部对所述清扫机构沿着行进方向进行引导,

所述引导部包含导片,所述导片具有与所述管接触的边缘,

所述边缘的利用与所述行进方向正交的平面剖切的剖面形状为越接近所述管越细的尖锐的形状。

7.根据权利要求6所述的清扫机构,其特征在于,

所述导片被施力,将所述边缘压接于所述管。

8.根据权利要求6或7所述的清扫机构,其特征在于,

所述导片包括第一导片和第二导片,当所述清扫机构在包含于管组的至少两个管之间行进时,所述第一导片与一个管接触,所述第二导片与另一个管接触。

9.一种清扫装置,其具备:

装置主体;

权利要求1至8中任一所述的清扫机构,其设置于所述装置主体;以及

移动机构,其设置于所述装置主体,

所述清扫装置的特征在于,

所述清扫机构从所述装置主体升降,将相对于所述移动机构位于下方的管的表面上附着的附着物去除。

10.根据权利要求9所述的清扫装置,其特征在于,

所述清扫机构从所述装置主体升降,进入包含于管组的至少两个管之间,对所述至少两个管进行清扫。

11.根据权利要求9所述的清扫装置,其特征在于,

所述装置主体通过所述移动机构的移动,重复进行沿着包含于管组的至少两个管的移动和停止,

所述清扫机构在所述装置主体停止的位置进行升降,对所述至少两个管进行清扫。

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