[发明专利]含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质

说明书

本发明提供可以形成即使厚度薄也具有优异的耐磨损性的润滑层，适合作为磁记录介质用润滑剂的材料的含氟醚化合物。式(1)所示的含氟醚化合物。R¹‑R²‑CH₂‑R³‑CH₂‑R⁴‑R⁵(1)(在式(1)中，R³为全氟聚醚链。R¹为与R²结合的末端基，R⁵为与R⁴结合的末端基。R¹为烯基或炔基，R⁵为包含杂环的基团。R²由下述式(2)表示，R⁴由下述式(3)表示。式(2)中的a和式(3)中的b各自独立地为整数1～3。)

技术领域

本发明涉及适合于磁记录介质的润滑剂用途的含氟醚化合物、包含该含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂以及磁记录介质。

本申请基于2017年10月31日在日本申请的特愿2017-210678号来主张优先权，将其内容援用到本文中。

背景技术

为了使磁记录再生装置的记录密度提高，适于高记录密度的磁记录介质的开发进展。

以往，作为磁记录介质，有在基板上形成记录层，在记录层上形成了碳等保护层的磁记录介质。保护层保护记录于记录层的信息，并且提高磁头的滑动性。然而，仅在记录层上设置保护层，不能充分地获得磁记录介质的耐久性。因此，一般而言，在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。

作为在形成磁记录介质的润滑层时使用的润滑剂，提出了例如，含有具有包含CF₂的重复结构的氟系聚合物的润滑剂(例如，参照专利文献1～2)。

例如，在专利文献1中公开了末端具有杂环的全氟聚醚衍生物。此外，在专利文献2中公开了氟烷基与烯基被具有极性基的亚烷基连接了的含氟化合物。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-33253号公报

专利文献2：日本专利第2866622号公报

发明内容

发明所要解决的课题

在磁记录再生装置中，要求使磁头的上浮量更加小。因此，要求使磁记录介质中的润滑层的厚度更薄。

然而，一般而言如果使润滑层的厚度薄，则有润滑层的被覆性降低，磁记录介质的耐磨损性降低的倾向。

本发明是鉴于上述情况而提出的，其课题是提供可以形成即使厚度薄也具有优异的耐磨损性的润滑层，可以适合用作磁记录介质用润滑剂的材料的含氟醚化合物。

此外，本发明的课题是提供包含本发明的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂。

此外，本发明的课题是提供具有包含本发明的含氟醚化合物的润滑层的具有优异的可靠性和耐久性的磁记录介质。

用于解决课题的手段

本发明人为了解决上述课题而反复进行了深入研究。

其结果发现，只要制成在全氟聚醚链与分子的第1末端基之间、全氟聚醚链与第2末端基之间分别配置具有特定结构的连接基，该具有特定结构的连接基为将醚键(-O-)与亚甲基(-CH₂-)与1个氢原子被羟基取代了的亚甲基(-CH(OH)-)组合了的连接基，且第1末端基为烯基或炔基，第2末端基为包含杂环的基团的含氟醚化合物即可，从而想到了本发明。

即，本发明涉及以下事项。

[1]一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示。