[发明专利]具有高细胞粘附性的聚合物细胞培养表面

权利要求书

1.一种方法，包括：

·提供聚合物衬底，该聚合物衬底包括初始接触表面以及邻近所述初始接触表面的内部部分，

·使所述初始接触表面与工艺气体接触；以及

·在邻近所述初始接触表面的所述工艺气体中引入射频电功率，以使在所述初始接触表面附近产生等离子体，由此在相对于所述初始接触表面有效地提高鸡胚细胞培养物从经处理的接触表面的细胞回收率的条件下，形成具有经处理的接触表面的经处理的聚合物衬底，从而导致从所述经处理的接触表面的细胞回收率是在细胞回收测试开始时提供给所述经处理的接触表面的细胞的至少140％。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述经处理的接触表面的x射线光电子能谱(XPS)原子组成是：

·从10％到25％的氧、从0％到5％的氮以及从70％到90％的碳；

·可选地，从15％到24％的氧、从0.1％到5％的氮以及从70％到80％的碳；

·可选地，从20％到24％的氧、从0.1％到1％的氮以及从70％到79％的碳。

3.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述经处理的聚合物衬底的所述内部部分的XPS原子组成比所述经处理的接触表面包含更少的氧和更多的碳。

4.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述经处理的聚合物衬底的所述内部部分在0.6nm深度处的XPS原子组成包含从1％到10％的氧。

5.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述经处理的聚合物衬底的所述内部部分在1.2nm深度处的XPS原子组成包含从0.5％到5％的氧。

6.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述经处理的聚合物衬底的所述内部部分在1.7nm深度处的XPS原子组成包含从0.3％到3％的氧。

7.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述经处理的聚合物衬底的所述内部部分在2.3nm深度处的XPS原子组成包含从0.1％到1％的氧。

8.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述经处理的聚合物衬底的所述内部部分在2.9nm深度处的XPS原子组成包含从0.1％到1％的氧。

9.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中相对于所述初始接触表面，与所述经处理的接触表面接触生长并收获的鸡胚细胞培养物的存活率是至少88％，可选地是从88％到99％、可选地是从88％到97％、可选地是从94％到96％。

10.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中相对于所述初始接触表面，与所述经处理的接触表面接触生长并收获的鸡胚细胞培养物的回收率是至少132％，可选地是从132％到300％、可选地是从140％到250％、可选地是从140％到230％。

11.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述经处理的接触表面的表面接触角是从38°到62°，可选地是从50°到70°、可选地是从55°到65°、可选地是从60°到64°、可选地是从30°到50°、可选地是从30至40°、可选地是从35°到45°、可选地是从37°到41°。

12.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述经处理的聚合物衬底包括容器，所述容器具有壁，所述壁具有封闭内腔的内表面、外表面、以及在所述内表面与所述外表面之间并与其隔开的内部部分。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述内表面是大致圆柱形的。

14.如权利要求12或13所述的方法，其中所述经处理的接触表面包括所述容器的所述内表面的至少一部分。

15.如前述权利要求12至14中任一项所述的方法，其中所述容器包括滚瓶。