[发明专利]用于填充介质的填充水平的电容性测量的设备和方法

权利要求书

1.一种用于在能够填充有填充介质的填充体积（3）中的填充介质（2）的填充水平的电容性测量的设备（1），包括：

-第一测量元件（5），

-布置的第二测量元件（6），其中，第二测量元件（6）创建为使得在第二测量元件（6）的第一部分（6a）和第二测量元件（6）的第二部分（6b）之间形成电势梯度,并且第二测量元件(6)的导电率低于第一测量元件(5)的导电率；

-电压产生装置（7），所述电压产生装置（7）与第二测量元件（6）相关联并且设计为产生第一电压（U1）和第二电压（U2），并将第一电压（U1）和第二电压（U2）施加到第二测量元件（6）；

-控制装置（8），所述控制装置（8）与电压产生装置（7）相关联并且设计为控制电压产生装置（7）的运作，使得将第一和第二电压（U1、U2）在第一时间间隔内以交替的方式施加到第二测量元件（6）的第一和第二部分（6a、6b），其中，将第一电压（U1）施加到第二测量元件（6）的第一部分（6a），将第二电压（U2）施加到第二测量元件（6）的第二部分（6b），以测量第一测量元件（5）和第二测量元件（6）之间的第一电荷，并且在所述第一时间间隔之后的第二时间间隔内，将第一电压（U1）施加到第二测量元件（6）的第二部分（6b），而将第二电压（U2）施加到第二测量元件（6）的第一部分（6a），以测量第一测量元件（5）和第二测量元件（6）之间的第二电荷；

-测量设备（9），其设计用于在将第一和第二电压（U1、U2）交替施加到第二测量元件（6）的第一和第二部分（6a、6b）期间测量第一和第二测量元件（5、6）之间的电荷。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，评估设备（10）与测量设备（9）相关联，并且设计用于基于填充体积（3）中的填充介质（2）的填充水平，在将第一和第二电压（U1、U2）交替施加到第二测量元件（6）的第一和第二部分（6a、6b）期间评估所测量的电荷。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，第一测量元件（5）和第二测量元件（6）并排布置，其中，第一测量元件（5）和第二测量元件（6）形成电容器装配件。

4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，第一测量元件（5）设计为板状的或管状的，并且第二测量元件（6）设计为板状的或杆状的。

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，第二测量元件（6）包括至少一个测量电阻器。

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，测量电阻器设计为电阻元件，所述电阻元件布置或形成为沿着第二测量元件（6）的纵轴连续地延伸。

7.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，测量电阻器设计为电阻元件，所述电阻元件布置或形成为在第二测量元件（6）的基底元件（18）上连续地延伸。

8.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，测量电阻器由沿着第二测量元件（6）的纵轴布置或形成的多个分立的电阻元件形成在所述第二测量元件的基底元件（18）上。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的设备，其特征在于，第二测量元件（6）至少部分地包括由绝缘材料制成的绝缘涂层（17），所述绝缘涂层（17）形成第二测量元件（6）的电绝缘。

10.根据权利要求1-8中任一项所述的设备，其特征在于，第二测量元件（6）全部地包括由绝缘材料制成的绝缘涂层（17），所述绝缘涂层（17）形成第二测量元件（6）的电绝缘。

11.根据权利要求1-8中任一项所述的设备，其特征在于，第二测量元件（6）的第一部分（6a）形成在第二测量元件（6）的第一自由端的区域中或由第二测量元件（6）的第一自由端形成，第二测量元件（6）的第二部分（6b）形成在第二测量元件（6）的第二自由端的区域中或由第二测量元件（6）的第二自由端形成。