[发明专利]相位差膜和光学层叠体有效

专利信息
申请号: 201880068632.8 申请日: 2018-10-10
公开(公告)号: CN111247464B 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 仲俊之;川上武志 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;B29L7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 相位差 光学 层叠
【权利要求书】:

1.一种带有基材层的光学层叠体,其包含相位差膜和光学膜,

所述相位差膜依次包含基材层、取向层和包含至少1层相位差层的含有相位差层的层,

所述相位差层具有:包含宽度方向的一个端部的第一端区域、以及在所述宽度方向上与所述第一端区域相邻的第一相邻区域,

所述第一相邻区域具有第一慢轴,

所述第一端区域具有第二慢轴,所述第二慢轴是与所述第一慢轴方向不同的慢轴,

所述光学膜借助粘接层而层叠在所述相位差膜的所述含有相位差层的层上,

所述第一端区域的所述第二慢轴是与正交方向形成20°以下的角度的方向的慢轴,所述正交方向是与所述宽度方向正交的方向,

所述宽度方向上的所述粘接层的一个端部处于所述相位差层的所述第一端区域上、或者处于成为所述第一端区域与所述第一相邻区域的边界的第一边界线上,

所述相位差层具有与粘接层的宽度方向的两端部相比更靠外侧、且未直接或间接固定于粘接层的非固定区域。

2.根据权利要求1所述的带有基材层的光学层叠体,其中,

所述第一慢轴或第二慢轴是在所述相位差层的面内与正交方向形成20°以下的角度的方向的慢轴,所述正交方向是与所述宽度方向正交的方向。

3.根据权利要求1或2所述的带有基材层的光学层叠体,其中,所述取向层包含光取向性聚合物。

4.根据权利要求3所述的带有基材层的光学层叠体,其中,

所述相位差层还具有:包含所述宽度方向的另一个端部的第二端区域、以及在所述宽度方向上与所述第二端区域相邻的第二相邻区域,

所述第二相邻区域具有第三慢轴,

所述第二端区域具有第四慢轴,所述第四慢轴是与所述第三慢轴方向不同的慢轴。

5.根据权利要求4所述的带有基材层的光学层叠体,其中,

所述第三慢轴或所述第四慢轴是在所述相位差层的面内与正交方向形成20°以下的角度的方向的慢轴,所述正交方向是与所述宽度方向正交的方向。

6.根据权利要求4或5所述的带有基材层的光学层叠体,其中,

所述第二端区域的所述第四慢轴是与所述正交方向形成20°以下的角度的方向的慢轴,

所述宽度方向上的所述粘接层的另一个端部处于所述相位差层的所述第二端区域上、或者处于成为所述第二端区域与所述第二相邻区域的边界的第二边界线上。

7.根据权利要求4或5所述的带有基材层的光学层叠体,其中,

所述第二相邻区域的所述第三慢轴是与所述正交方向形成20°以下的角度的方向的慢轴,

所述宽度方向上的所述粘接层的另一个端部处于所述相位差层的所述第二相邻区域上、或者处于成为所述第二端区域与所述第二相邻区域的边界的第二边界线上。

8.一种带有基材层的光学层叠体的制造方法,其是制造权利要求1~5中任一项所述的带有基材层的光学层叠体的方法,其具有如下工序:

在所述基材层上形成所述取向层的取向层形成工序;以及

在所述取向层上形成所述含有相位差层的层的相位差层形成工序。

9.根据权利要求8所述的带有基材层的光学层叠体的制造方法,其中,

所述取向层包含光取向性聚合物,

所述取向层形成工序具有对所述光取向性聚合物照射偏振紫外线的工序。

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