[发明专利]偏光膜的制造方法及偏光膜在审
申请号: | 201880069705.5 | 申请日: | 2018-10-16 |
公开(公告)号: | CN111279232A | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 幡中伸行;村野耕太 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B05D1/36;B05D5/06;B05D7/00;B05D7/24 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;唐峥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏光 制造 方法 | ||
偏光膜的制造方法具有下述工序:准备工序,准备在基材层的至少一面侧具有包含二色性色素的偏光层的层叠膜;保护层层叠工序,通过在层叠膜的偏光层上层叠具有用于被覆偏光层的被覆区域和用于使偏光层露出的露出区域的保护层,从而得到带有保护层的层叠膜;溶解液接触工序,通过使带有保护层的层叠膜与能将偏光层溶解的溶解液接触,从而得到具有将偏光层的一部分区域除去而形成的图案化偏光层的带有图案化偏光层的膜;和剥离工序,将保护层从带有图案化偏光层的膜剥离。
技术领域
本发明涉及偏光膜的制造方法及偏光膜,尤其涉及具有包含液晶化合物和二色性色素的层的偏光膜的制造方法及偏光膜。
背景技术
使用了有机发光二极管(OLED)的有机EL显示装置与液晶显示装置等相比,不仅可实现轻量化、薄型化,而且能实现宽广的视野角、快速的响应速度、高对比度等高画质,因此,已被应用于智能手机、电视机、数码相机等各种领域中。对于有机EL显示装置而言,为了抑制因外界光线的反射而导致的视觉辨认性的下降,使用圆偏光板等提高防反射性能是已知的。
作为可用于这样的圆偏光板的偏光膜,日本特开2015-206852号公报(专利文献1)及日本特开2015-212823号公报(专利文献2)中,记载了在基材上层叠经图案化的液晶固化膜而成的图案偏光膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2015-206852号公报
专利文献2:日本特开2015-212823号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明的目的在于提供具有可见度校正偏光度相互不同的至少2种区域的新型偏光膜的制造方法及偏光膜。
用于解决课题的手段
本发明提供以下所示的偏光膜的制造方法及偏光膜。
〔1〕偏光膜的制造方法,其具有下述工序:
准备工序,准备在基材层的至少一面侧具有包含二色性色素的偏光层的层叠膜;
保护层层叠工序,通过在前述层叠膜的前述偏光层上层叠具有用于被覆前述偏光层的被覆区域和用于使前述偏光层露出的露出区域的保护层,从而得到带有保护层的层叠膜;
溶解液接触工序,通过使前述带有保护层的层叠膜与能将前述偏光层溶解的溶解液接触,从而得到具有将前述偏光层的一部分区域除去而形成的图案化偏光层的带有图案化偏光层的膜;和
剥离工序,将前述保护层从前述带有图案化偏光层的膜剥离。
〔2〕如〔1〕所述的偏光膜的制造方法,其中,前述准备工序具有下述工序:
取向层形成工序,在前述基材层的一面侧涂布取向层形成用组合物,从而形成取向层;和
偏光层形成工序,在前述基材层的形成了前述取向层的这侧的面上,涂布包含液晶化合物及前述二色性色素的偏光层形成用组合物,从而形成前述偏光层。
〔3〕如〔2〕所述的偏光膜的制造方法,其中,前述取向层形成用组合物包含光取向性聚合物,
前述取向层形成工序中,对涂布前述取向层形成用组合物而形成的取向层用涂布层进行偏振光照射,从而形成前述取向层。
〔4〕如〔2〕或〔3〕所述的偏光膜的制造方法,其中,前述偏光层为聚合性液晶化合物进行了取向的层,
前述偏光层形成工序中,对涂布前述偏光层形成用组合物而形成的偏光层用涂布层进行活性能量射线照射,从而形成前述偏光层。
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