[发明专利]曝光装置及曝光方法

说明书

本发明提供一种曝光装置及曝光方法，该曝光装置将对形成于被曝光基板的已有基准图案进行拍摄后的基准图案数据与光掩模的基准位置部数据进行比较，检测宽度方向上光掩模的偏移量，计算出光掩模的暂定移动量，预先存储被曝光基板或光掩模的偏转状态变化的装置固有的偏转特性数据，并基于偏转特性数据，进行对光掩模移动量施加补正的控制。

技术领域

本发明涉及曝光装置及曝光方法。

背景技术

曝光装置在用于对液晶面板的取向膜进行取向处理的光取向处理、光刻工序中使用的光致抗蚀剂的曝光等广泛的技术领域中使用。近年来，液晶面板、有机EL(Electro-Luminescence：电致发光)面板等的FPD(Flat Panel Display：平板显示器)在大型化及高精细化方面进展。在FPD中，用于曝光的光掩模越大型，生产成本就越大幅升高。另外，在大型的光掩模中，存在有挠曲、变形等的发生概率变高的问题。作为该对策，已知有例如专利文献1公开的取向处理装置。在该取向处理装置中，对于向规定方向以规定速度搬运的基板，使用了多个小型的光掩模组。

在上述取向处理装置中，根据形成于基板的已有的线状图案、和形成于光掩模的基准图案的位置关系，检测光掩模相对于基板的偏移量。检测该偏移量的位置位于比之后进行曝光处理的位置更靠搬运方向的上游侧。然后，检测出上述偏移量的位置的基板部分通过向下游侧搬运基板，朝向进行曝光处理的位置。此时，基于上述偏移量，使光掩模向宽度方向(与搬运方向呈直角的方向)补正移动而防止光掩模相对于曝光预定位置偏移。像这样的对光掩模的宽度方向的位置进行补正控制的方法被称为所谓的跟随控制。

在光掩模设有用于进行曝光的曝光用光透射部、及用于检测上述线状图案和基准图案的拍摄用光透射部。曝光用光透射部配置在搬运方向的下游侧，拍摄用光透射部配置在搬运方向的上游侧。将曝光用光透射部和拍摄用光透射部在搬运方向上配置在不同位置的理由是，从拍摄部的配置及设计的观点考虑以及在检测出偏移量的基板部分到达曝光位置之前，需要时间使光掩模进行跟随动作来修正光掩模的位置。这些曝光用光透射部与拍摄用光透射部的间隔有时需要100mm左右的长度。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-164639号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

在要将上述的现有技术应用于在进行高精细化方面进展的液晶面板等的制造之中的情况下，产生以下问题。即，由于搬运基板的基板搬运导轨(基板搬运轴)的机械状态，基板伴随着偏转(yawing)而被搬运。如上所述，在检测到光掩模相对于基板的偏移量的位置、和实际进行曝光处理的位置之间存在距离上的间隔。因此，在检测出光掩模的上述偏移量的基板部分到达进行曝光处理的位置之前，如果基板发生偏转，则实际上在上述跟随控制中的偏移量的补正中产生曝光位置误差。

另外，近年来普及的全高清液晶电视的像素数为横(水平像素)1920×纵(垂直像素)1080，纵横合计为2073600，但是所谓的4K电视为横3840×纵2160，合计为8294400像素，即，像素数为全高清的4倍。此外，还开始了8K电视的开发。随着这种高精细化的进展，形成于基板的源极线、栅极线、黑矩阵等的线条空间(Line and space)变窄。如果偏转对进行搬运的基板有影响，则预想即使是光掩模相对于基板的微小的偏移量，也会带来大的影响。其结果是，在曝光处理中，防止光掩模相对于基板的偏移变得更为重要。除了取向膜的光取向处理之外，在对基板进行各种材料的曝光处理、光退火处理、激光处理等各种光照射的处理中也同样有搬运基板的偏转的影响。

本发明是鉴于上述的技术问题而提出的，其目的在于提供一种能够防止由基板等的偏转的影响引起的光掩模对准偏移的曝光装置及曝光方法。

用于解决技术问题的技术方案