[发明专利]活性处理水、活性处理水的制造方法、活性处理介质的制造方法、活性处理水的制造装置、食品保存方法以及活性处理介质

权利要求书

1.一种活性处理水的制造方法，包括在水槽内充满未经活性处理的水，在密闭的状态下供给压缩空气，施加100MPa以上300MPa以下的压力5分钟以上的加压工序，

所述加压工序中得到的活性处理水的氢核磁共振波谱中源自水分子中氢原子的峰的自由感应衰减时间FID与未经活性处理的水的氢核磁共振波谱中源自水分子中氢原子的峰的自由感应衰减时间FID₀之比FID/FID₀为0.80以下，FID和FID₀的单位为秒。

2.如权利要求1所述的活性处理水的制造方法，其中，不包括使所述加压工序中被加压的水与无机物质接触的工序。

3.一种活性处理介质的制造方法，使用了通过权利要求1或2所述的活性处理水的制造方法制造的活性处理水，

具有通过使所述活性处理水与被处理介质接触或者非接触地配置在该被处理介质的附近、并对所述被处理介质实施活性处理而使其成为活性处理介质的活性处理化工序，

进行调整，使得所述活性处理介质浸渍于水、该浸渍后的水的氢核磁共振波谱中源自水分子中氢原子的自由感应衰减时间FID_m与未经活性处理的介质的氢核磁共振波谱中源自水分子中氢原子的峰的自由感应衰减时间FID_m0之比FID_m/FID_m0为0.90以下，FID_m和FID_m0的单位为秒。

4.一种活性处理水的制造装置，具备：

供给压缩空气的压缩空气供给源、

储藏水的水槽、

在所述水槽内充满未经活性处理的水，在密闭的状态下由所述压缩空气供给源供给压缩空气，对水施加100MPa以上300MPa以下的压力的加压机构，

活性处理水的氢核磁共振波谱中源自水分子中氢原子的峰的自由感应衰减时间FID与未经活性处理的水的氢核磁共振波谱中源自水分子中氢原子的峰的自由感应衰减时间FID₀之比FID/FID₀为0.80以下，FID和FID₀的单位为秒。