[发明专利]量测术中的数据估计

权利要求书

1.一种用于估计多个数据集中的至少一个数据集的未知值的设备，每个数据集包括指示由制作于衬底中或衬底上的一个或更多个特征衍射和/或反射和/或散射的辐射的多个值，

其中所述多个数据集包括至少一个已知值，

其中所述多个数据集中的至少一个数据集包括未知值，所述设备包括处理器，所述处理器被配置成基于以下估计所述至少一个数据集的所述未知值：

所述多个数据集的所述已知值；

所述多个数据集中的一个数据集内的两个或更多个值之间的第一条件；和

作为所述多个数据集中的不同数据集的部分的两个或更多个值之间的第二条件。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一条件包括平滑度条件，可选地其中所述第一条件包括指示所述多个数据集中的所述数据集内的一个或更多个值之间的幅值的差的数据。

3.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述第二条件包括相关性条件。

4.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述第二条件包括所述多个数据集的不同数据集中的对应值之间的相关性，可选地其中所述相关性条件还包括所述多个数据集的一个数据集中的多个值之间的相关性。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述处理器配置成基于矩阵补全算法估计所述至少一个数据集的未知值。

6.根据权利要求5所述的设备，其中所述矩阵补全算法基于凸优化技术，可选地其中所述凸优化技术包括邻近分裂和原始对偶算法中的一个。

7.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述处理器配置成基于：

估计所述至少一个数据集的未知值，

其中，d_i是一数据集并构成矩阵D的一行，D_M是多个已知值，γ是相比于所述相关性条件向所述平滑度条件赋予一权重的值，∈是D中的已知值的估计的误差项，M是识别所述多个已知值的掩模，TV是总变差。

8.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述处理器配置成针对多个光学参数和/或特征参数中每一个参数估计在一个或更多个数据集中的未知值，并产生数据集的库，所述库能够与经由通过传感器执行的测量获得的所测量的数据集进行比较，可选地其中所述处理器配置成将所测量的数据集与所述库中的多个数据集中的至少一个数据集匹配，以确定在所述衬底上进行的光刻过程的至少一个参数。

9.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述处理器还配置成基于以下中的一个或更多个产生所述至少一个数据集中的所述已知值中的一个或更多个：

光学系统的至少一个参数，所述光学系统配置成将辐射引导朝向制作于衬底中或衬底上的所述一个或更多个特征；

所述辐射的至少一个参数；和

制作于衬底中或衬底上的所述一个或更多个特征的至少一个参数；

可选地其中所述处理器配置成在信息内容高于阈值的数据集中的部位处产生所述已知值中的一个或更多个。

10.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述多个数据集中的一个或更多个数据集中的所有值都是已知的，可选地其中所有值都是已知的所述一个或更多个数据集与制作于所述衬底或另一衬底中或所述衬底或另一衬底上的一个或更多个另外的特征相关。

11.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述多个数据集中的一个或更多个数据集表示光瞳图像，所述值中的一个或更多个表示光瞳图像的像素。

12.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述像素中的一个或更多个包括指示反射率或强度的数据。

13.一种光刻设备，包括根据权利要求1-12中任一项所述的设备。