[发明专利]核酸固定制品及其方法

权利要求书

1.一种制品，其包括：

基材；和

在基材上的至少一个固定位点，所述固定位点包括至少一个核酸固定位点，每个位点具有与基材接触的连接剂第一层，以及与第一层接触的树枝状分子固定剂第二层。

2.如权利要求1所述的制品，其中，所述树枝状分子固定剂是被以下中的至少一种封端的树枝状分子：-NH₂、-NRH、–NH₃⁺、–NRH₂⁺、–NR₂H⁺、–NR₃⁺或其组合，其中R为(C₁至C₁₀)烷基。

3.如权利要求1所述的制品，其还包括在至少一个核酸固定位点上的至少一个经固定的核酸。

4.如权利要求1所述的制品，其中，所述至少一个固定位点选自单个位点、多个位点、阵列图案、基材的一个主侧的整个表面区域。

5.如权利要求4所述的制品，其中，所述阵列图案包括多个尺寸为5至1,000nm的核酸固定位点，并且每个位点与相邻位点间隔100至500nm。

6.如权利要求1所述的制品，其中，所述基材是选自透明玻璃、透明玻璃陶瓷、透明陶瓷、透明塑料或其组合的低自发荧光材料中的至少一种。

7.如权利要求1所述的制品，其中，连接剂是可化学气相沉积涂覆的硅烷，并且树枝状分子固定剂是胺封端的、星形支化树枝状分子，其具有球体形状和3至10个扩展代数。

8.如权利要求1所述的制品，其中，所述基材的厚度为100至500微米。

9.如权利要求1所述的制品，其还包括流动池，所述流动池具有包围至少一个制品的腔室。

10.如权利要求8所述的制品，其中，所述流动池具有入口和出口，并且所述至少一个制品包括多个制品。

11.一种制造如权利要求1所述的制品的方法，其包括：

用光致抗蚀剂附着力促进剂涂覆基材以形成附着力得到促进的基材；

用光致抗蚀剂完全涂覆附着力得到促进的基材，以及对所得的经光致抗蚀剂涂覆的基材进行显影，以形成选定的图案；

移除残余的光致抗蚀剂附着力促进剂；以及

用光致抗蚀剂蚀刻剂对选定的图案进行显影，以产生经过蚀刻的图案化基材；

在经蚀刻的区域中，通过化学气相沉积，用连接剂选择性地涂覆经蚀刻的图案化基材，以形成经连接剂涂覆的经蚀刻的图案化基材；

以及以下中的任一项：

从经连接剂涂覆的经蚀刻的图案化基材移除光致抗蚀剂，然后，使经连接剂涂覆的经蚀刻的图案化基材与树枝状分子接触以形成图案化的核酸固定表面；

或

使经连接剂涂覆的经蚀刻的图案化基材与树枝状分子接触，然后

从经连接剂涂覆的经蚀刻的图案化基材移除光致抗蚀剂，以形成图案化的核酸固定表面。

12.如权利要求11所述的方法，其还包括用于基材的可分离的支撑件，以及在移除光致抗蚀剂之后的任何时间，移除用于基材的可分离的支撑件。

13.如权利要求12所述的方法，其中，在化学气相沉积连接剂之后，移除可分离的支撑件。

14.如权利要求12所述的方法，其中，所述可分离的支撑件的厚度为100至1,000微米。

15.一种使用如权利要求1所述的制品的方法，其包括：

使制品与核酸源接触。

16.如权利要求15所述的方法，其还包括：针对来自核酸源的核酸固定，对所述制品进行分析。