[发明专利]显示装置及电子设备有效
申请号: | 201880073067.4 | 申请日: | 2018-11-15 |
公开(公告)号: | CN111328414B | 公开(公告)日: | 2022-09-23 |
发明(设计)人: | 川岛进;楠本直人 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | G09G3/3233 | 分类号: | G09G3/3233;G09G3/20;G09G3/36 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘倜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 电子设备 | ||
提供一种能够提高图像质量的显示装置。在各像素中设置有存储节点,该存储节点可以保持第一数据。由电容耦合将第二数据附加到第一数据,并可以将该第一数据供应到显示元件。因此,显示装置可以显示被校正的图像。由于从电源线等供应用来进行电容耦合工作的基准电位,因此可以由共同使用的信号线供应第一数据及第二数据。
技术领域
本发明的一个实施方式涉及一种显示装置。
注意,本发明的一个实施方式不局限于上述技术领域。本说明书等所公开的发明的一个实施方式的技术领域涉及一种物体、方法或制造方法。另外,本发明的一个实施方式涉及一种工序(process)、机器(machine)、产品(manufacture)或者组合物(compositionof matter)。由此,更具体而言,作为本说明书所公开的本发明的一个实施方式的技术领域的一个例子可以举出半导体装置、显示装置、液晶显示装置、发光装置、照明装置、蓄电装置、存储装置、摄像装置、这些装置的驱动方法或者这些装置的制造方法。
注意,在本说明书等中,半导体装置是指能够通过利用半导体特性而工作的所有装置。晶体管和半导体电路为半导体装置的一个实施方式。另外,存储装置、显示装置、摄像装置、电子设备有时包括半导体装置。
背景技术
作为可以应用于晶体管的半导体薄膜,硅类半导体材料被广泛地周知。作为其他材料,氧化物半导体受到关注。作为氧化物半导体,例如,已知除了如氧化铟、氧化锌等单元金属氧化物之外还有多元金属氧化物。在多元金属氧化物中,有关In-Ga-Zn氧化物(以下也称为IGZO)的研究尤为火热。
通过对IGZO的研究,在氧化物半导体中,发现了既不是单晶也不是非晶的CAAC(c-axis aligned crystalline:c轴取向结晶)结构及nc(nanocrystalline:纳米晶)结构(参照非专利文献1至非专利文献3)。非专利文献1及非专利文献2中公开了一种使用具有CAAC结构的氧化物半导体制造晶体管的技术。再者,非专利文献4及非专利文献5中公开了一种比CAAC结构及nc结构的结晶性更低的氧化物半导体中也具有微小的结晶。
将IGZO用于活性层的晶体管具有极低的关态电流(off-state current)(参照非专利文献6),已知有利用了该特性的LSI及显示器(参照非专利文献7及非专利文献8)。
另外,专利文献1公开了一种具有将关态电流极低的晶体管用于存储单元的结构的存储装置。
[参考文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利申请公开第2011-119674号公报
[非专利文献]
[非专利文献1]S.Yamazaki et al.,“SID Symposium Digest of TechnicalPapers”,2012,volume 43,issue 1,p.183-186
[非专利文献2]S.Yamazaki et al.,“Japanese Journal of Applied Physics”,2014,volume 53,Number 4S,p.04ED18-1-04ED18-10
[非专利文献3]S.Ito et al.,“The Proceedings of AM-FPD’13Digest ofTechnical Papers”,2013,p.151-154
[非专利文献4]S.Yamazaki et al.,“ECS Journal of Solid State Scienceand Technology”,2014,volume 3,issue 9,p.Q3012-Q3022
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