[发明专利]铜锰溅射靶

权利要求书

1.一种形成高强度铜合金的方法，所述方法包括：

将包含锰的铜材料加热至高于400℃的温度，所述铜材料包含约2重量％至约20重量％的锰；

使所述铜材料冷却到约325℃至约350℃的温度以形成冷却的铜材料；以及

利用等通道角挤出(ECAE)来挤出所述冷却的铜材料以形成冷却的铜锰合金。

2.根据权利要求1所述的方法，其中挤出所述铜合金包括至少4遍等通道角挤出。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述高强度铜合金在加热到约400℃至约450℃的温度保持至少一小时后具有至多约2μm直径的平均晶粒尺寸。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述高强度铜合金在加热到约500℃至约550℃的温度保持至少一小时后具有约12μm直径至约15μm直径的平均晶粒尺寸。

5.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括：

使所述冷却的铜锰合金经受第一轧制步骤，

将所述冷却的铜锰合金加热到约400℃至约575℃的温度保持至少0.5小时以形成受热的铜锰合金，以及

使所述受热的铜锰合金经受第二轧制步骤以形成硬化的铜锰合金。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述硬化的铜锰合金具有约1.5μm直径至约15μm直径的平均晶粒尺寸。

7.一种溅射组件，包括溅射靶，所述溅射靶包含：

铜合金，所述铜合金具有作为主要组分的铜并且含有锰，其中所述锰以按所述铜合金的重量计约2重量％至约20重量％的重量百分比存在，并且其中所述溅射靶具有基本上精制的次生相，使得所述次生相的平均直径为通过常规热机械加工方法获得的平均直径的至少约1.5分之一。

8.根据权利要求7所述的溅射组件，其中所述铜合金包含约3重量％至约12重量％的锰。

9.根据权利要求7所述的溅射组件，其中所述铜合金具有至多约15μm直径的平均晶粒尺寸。

10.根据权利要求7所述的溅射组件，其中所述铜合金具有介于约475MPa和约700MPa之间的平均屈服强度。