[发明专利]倍半硅氧烷高分子及包含其的涂层组合物

说明书

本发明公开一种被涂布于玻璃基材以提高玻璃基材的强度的倍半硅氧烷高分子及包含其的涂层组合物。所述倍半硅氧烷高分子包含化学式1和化学式2的重复单元。

技术领域

本发明涉及一种倍半硅氧烷高分子及包含其的涂层组合物，更详细地，涉及一种涂布于玻璃基材(glass base material)以提高玻璃基材的强度的倍半硅氧烷高分子及包含其的涂层组合物。

背景技术

一般，玻璃产品广泛用于壁材、地板材料、瓷砖、屋顶材料、窗户等建筑物或构造物；杯子、碟子、碗等家庭用品；半导体制造装置等产业；汽车零部件、光学产品、眼镜、电子产品等。特别是玻璃产品可以被制成比丙烯树脂更耐热和耐刮擦，可视光线透射率高，可实现弯曲(curved)形态，因此，广泛应用于触摸屏面板等电子产品。

但是，玻璃存在如下问题：用手指触摸(touch)时可能会被指纹等污染，而且，由于柔性及硬度较弱，因此受到冲击时容易破损，玻璃碎片会飞散。特别是在具有弯曲形态而非板型的玻璃的情况下，由于应力集中在弯曲部分而存在受到冲击时更容易破损的问题。这不仅是玻璃本身的特性，也是因为玻璃表面上产生的微裂纹(micro crack)。玻璃在制造过程中，表面会出现肉眼看不见的小裂纹，而这些裂纹会大幅度降低玻璃的强度。为了解决这些问题，一般执行利用化学反应的强度改善工作。

利用化学反应改善玻璃强度的工作是在约400℃至500℃的盐浴槽(熔化硝酸钾)中执行4小时至8小时的离子交换反应，将玻璃表面的钠离子(Na⁺)置换为离子半径大的钾离子(K⁺)，来增加玻璃表面强度的技术。利用这种化学反应的方法，为了获得实用的强度而需要数小时甚至数十小时的长时间，导致生产率低的问题。另外，化学反应时，若用化学药品对玻璃进行蚀刻(Etching)处理，则发生外观斑点问题，因此，存在需要进行机械研磨(Polishing)作业的缺点。机械研磨作业是由于靠人力进行的手工操作，因此生产率低、不良率高，导致生产收率低，提高强度也有限。例如，经过一般的机械研磨的玻璃由于落球(Ball drop)破坏强度较低，因此，将130g的钢珠从约30cm高处落下时，会破坏80％以上。

发明内容

技术课题

本发明的目的在于，提供一种无需利用化学反应来直接改性玻璃，通过简单的涂布工序能提高玻璃的机械强度的倍半硅氧烷高分子及包含其的涂层组合物。

本发明的另一目在于，提供一种对玻璃的粘接性优异的倍半硅氧烷高分子及包含其的涂层组合物。

本发明的又另一目的在于，提供一种既维持玻璃的光学特性，又提高玻璃的表面硬度等机械强度、耐摩擦特性及耐污染特性的钢化玻璃面板。

解决课题的方法

为了达到所述目的，本发明提供倍半硅氧烷高分子，其包含以下化学式1和化学式2的重复单元：

[化学式1]

[化学式2]

在所述化学式1和化学式2中，R1各自独立地为氢、氘、卤素、胺基、环氧基、环己基环氧基、(甲基)丙烯酸基、羟基、硫醇基、异氰酸酯基、腈基、硝基、碳原子数1至40的烷基、碳原子数2至40的烯基、碳原子数1至40的烷氧基、碳原子数3至40的环烷基、碳原子数3至40的杂环烷基、碳原子数6至40的芳基、碳原子数3至40的杂芳基、碳原子数7至40的芳烷基、碳原子数6至40的芳氧基或碳原子数6至40的芳基硫醇基，R2各自独立地为氢、氘、卤素、异氰酸酯基、碳原子数1至40的烷基、碳原子数2至40的烯基、碳原子数3至40的环烷基、碳原子数3至40的杂环烷基、碳原子数6至40的芳基、碳原子数3至40的杂芳基、碳原子数7至40的芳烷基或碳原子数2至40的环氧基，n及m各自独立地为1至100000的整数，n:m为1:1至100:1。