[发明专利]用于收集和去除铝还原槽中的气体的装置

权利要求书

1.一种用于收集和去除铝还原槽中的气体的装置，所述装置包括：

气体管道系统，所述气体管道系统包括主水平气体管道和附加水平气体管道，所述主水平气体管道和所述附加水平气体管道被配置成切入/切出所述主水平气体管道和所述附加水平气体管道；以及

集气帽；

其中，所述集气帽中的每个集气帽通过第一通道连接到主水平气体管道以形成主除气回路，并通过第二通道连接到附加水平气体管道以形成附加除气回路；其中，主回路的每个随后的第一通道的高度沿着气流增加了前一个第一通道的高度的16％至24％，并且附加回路的每个随后的第二通道的高度沿着所述气流增加了前一个第二通道的高度的24％至26％；

其中，沿着所述气流的方向在至少一个集气帽的纵向侧的内表面的底部安装有分隔器板，所述分隔器板的长度不大于所述集气帽的高度的50％；

其中，至少两个分隔器板对称地安装在所述集气帽的中心轴线的每一侧，每个随后的板的长度沿所述帽的所述中心轴线的方向相对于前一个板减小了25％至35％。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述主回路和所述附加回路在所述帽的顶部处组合。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述帽以聚集器的形式制成。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述分隔器板之间的距离是所述集气帽的基部的长度的至少15％。

5.一种用于收集和去除铝还原槽中的气体的系统，所述系统包括：

还原槽，所述还原槽包括至少阳极和电解质外壳破碎器，

所述还原槽的罩，所述罩由可移除的盖构成；

气体管道系统，所述气体管道系统包括主水平气体管道和附加水平气体管道，所述主水平气体管道和所述附加水平气体管道被配置成切入/切出所述主水平气体管道和所述附加水平气体管道；

集气帽，所述集气帽被沿着所述还原槽的纵向轴线定位在所述还原槽的所述罩的下方、位于所述电解质外壳破碎器之间，以在所述还原槽的中心形成进气区域；

其中，相对于所述电解质外壳在能够移除罩盖的内侧水平地安装有引导元件，所述引导元件被配置成将气流引导到所述进气区域中；

其中，所述集气帽中的每个集气帽通过第一通道连接到主水平气体管道以形成主除气回路，并通过第二通道连接到附加水平气体管道以形成附加除气回路；其中，主回路的每个随后的第一通道的高度沿着气流增加了前一个第一通道的高度的16％至24％，并且附加回路的每个随后的第二通道的高度沿着所述气流增加了前一个第二通道的高度的24％至26％；

其中，沿着所述气流的方向在至少一个集气帽的纵向侧的内表面的底部安装有分隔器板，所述分隔器板的长度不大于所述集气帽的高度的50％；

其中，至少两个分隔器板对称地安装在所述集气帽的中心轴线的每一侧，每个随后的板的长度沿所述帽的所述中心轴线的方向相对于前一个板减小了25％至35％。

6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述帽以聚集器的形式制成。

7.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述集气帽以等于新阳极的高度的0.5至1.5倍的距离定位在所述电解质外壳的上方。

8.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述罩的相对于所述电解质的水平的高度等于新阳极的高度的1.5至2倍。

9.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述主回路和所述附加回路在所述帽的顶部组合。

10.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述分隔器板之间的距离是所述集气帽的基部的长度的至少15％。

11.一种还原槽，所述还原槽包括根据权利要求1所述的用于收集和去除气体的装置。