[发明专利]具有高压痕开裂阈值的基于含氢玻璃的制品

权利要求书

1.一种基于玻璃的制品，其包括：

SiO₂、Al₂O₃、P₂O₅和K₂O；

大于或等于4摩尔％至小于或等于15摩尔％P₂O₅；

大于或等于6摩尔％至小于或等于25摩尔％K₂O；以及

从基于玻璃的制品的表面延伸到层深度的含氢层，

其中，

含氢层的氢浓度从最大氢浓度到所述层深度是下降；以及

所述层深度大于5μm。

2.如权利要求1所述的基于玻璃的制品，其中，基于玻璃的制品的维氏裂纹引发阈值是至少1kgf。

3.如权利要求1或2所述的基于玻璃的制品，其中，所述层深度是至少10μm。

4.如权利要求1或2所述的基于玻璃的制品，其中，所述最大氢浓度位于基于玻璃的制品的表面处。

5.如权利要求1或2所述的基于玻璃的制品，其还包含以下至少一种：Li₂O、Na₂O、K₂O、Cs₂O和Rb₂O。

6.如权利要求1或2所述的基于玻璃的制品，其中，基于玻璃的制品的中心包含：

大于或等于45摩尔％至小于或等于75摩尔％SiO₂；

大于或等于3摩尔％至小于或等于20摩尔％Al₂O₃；

大于或等于6摩尔％至小于或等于15摩尔％P₂O₅；以及

大于或等于6摩尔％至小于或等于25摩尔％K₂O。

7.如权利要求1或2所述的基于玻璃的制品，其中，基于玻璃的制品的中心包含：

大于或等于45摩尔％至小于或等于75摩尔％SiO₂；

大于或等于3摩尔％至小于或等于20摩尔％Al₂O₃；

大于或等于4摩尔％至小于或等于15摩尔％P₂O₅；以及

大于或等于11摩尔％至小于或等于25摩尔％K₂O。

8.如权利要求1或2所述的基于玻璃的制品，其中，基于玻璃的制品的中心包含：

大于或等于55摩尔％至小于或等于69摩尔％SiO₂；

大于或等于5摩尔％至小于或等于15摩尔％Al₂O₃；

大于或等于6摩尔％至小于或等于10摩尔％P₂O₅；以及

大于或等于10摩尔％至小于或等于20摩尔％K₂O。

9.如权利要求1或2所述的基于玻璃的制品，其中，基于玻璃的制品的中心包含：

大于或等于0摩尔％至小于或等于10摩尔％Cs₂O；以及

大于或等于0摩尔％至小于或等于10摩尔％Rb₂O。

10.如权利要求1或2所述的基于玻璃的制品，其中，基于玻璃的制品基本不含锂和钠中的至少一种。

11.如权利要求1或2所述的基于玻璃的制品，其还包括从基于玻璃的制品的表面延伸进入基于玻璃的制品中到达压缩深度的压缩应力层。

12.如权利要求11所述的基于玻璃的制品，其中，压缩应力层包括大于或等于100MPa的压缩应力，以及压缩深度大于或等于75μm。