[发明专利]离轴电离装置和系统

权利要求书

1.一种离子源，其包括：

腔室，所述腔室包括样品入口，所述样品入口被配置为接收包括分析物的样品，所述腔室还包括离子出口，所述离子出口被配置为从所述腔室提供离子，其中所述腔室的所述离子出口相对于电离器出口轴线偏离；以及

电子源，所述电子源包括导电螺旋线圈，所述导电螺旋线圈被配置为提供磁场，该磁场使电子作为加速的电子束沿着导电螺旋线圈的纵向轴线加速进入所述腔室，其中所述腔室还包括电子入口和与所述电子入口相对的电子收集极，其中所述电子收集极和所述电子入口被布置成通过所述电子入口并沿着横向于在所述腔室的所述样品入口和所述离子出口之间的路径的路径引导来自所述电子源的加速的电子束从而电离分析物沿着偏离所述电离器出口轴线的方向通过所述离子出口离开所述腔室。

2.如权利要求1所述的离子源，其中所述样品入口与所述离子出口位于所述腔室的相对侧。

3.如权利要求1所述的离子源，其中所述样品入口被配置为从气相色谱仪接收样品。

4.如权利要求1所述的离子源，其中所述电子源包括在所述离子出口处的透镜，其中所述透镜被配置为使来自所述离子源的离子聚焦。

5.如权利要求1所述的离子源，其中所述腔室还包括电荷板，所述电荷板被配置为使所述腔室中的离子加速。

6.如权利要求1所述的离子源，其中所述腔室包括沿着所述腔室的一侧间隔开的至少两个分离的电子入口。

7.如权利要求1所述的离子源，其中所述腔室包括第二样品入口，所述第二样品入口被配置为接收第二分析物源。

8.如权利要求7所述的离子源，其中所述腔室还包括气体入口，所述气体入口被配置为与被导入所述腔室中的所述第二样品同轴地提供气体。

9.如权利要求8所述的离子源，其中所述气体入口被配置为提供反应气体以与所述腔室中的分析物反应。

10.如权利要求8所述的离子源，其中所述气体入口被配置为提供轰击气体。

11.一种离子源，其包括：

第一和第二相对的腔室，所述第一和第二相对的腔室中的每一个包括样品入口，所述样品入口各自被配置为接收包括分析物的样品，其中所述第一和第二相对的腔室中的每一个还包括离子出口，其中所述第一和第二相对的腔室中的每一个还包括电子入口，所述电子入口被配置为从第一和第二电子源中的相应一个接收电子；以及

电子收集极，所述电子收集极是所述第一和第二相对的腔室所共有的并且与所述第一和第二腔室中的每一个的所述电子入口相对地布置，其中所述电子收集极被布置成沿着横向于在所述样品入口和所述离子出口之间的路径的路径引导来自所述第一和第二电子源中的每一个的电子束。

12.如权利要求11所述的离子源，其中所述第一和第二相对的腔室中的每一个的所述离子出口将离子提供给流体联接到所述离子源的质量分析器。

13.如权利要求12所述的离子源，其中所述第一和第二相对的腔室中的每一个的所述离子出口将离子提供给定位在所述质量分析器和所述离子源之间的第一多极离子导向器。

14.如权利要求13所述的离子源，其中所述第一多极离子导向器包括多个倾斜杆。

15.如权利要求14所述的离子源，其中所述多个倾斜杆中的每一个具有沿着其长度变化的横截面。

16.如权利要求11所述的离子源，其中所述第一和第二腔室中的每一个包括在其离子出口处的聚焦透镜。