[发明专利]用于清洁壳体表面的部分区域的设备和方法

说明书

本发明涉及一种用于清洁壳体表面的至少一个部分区域的设备(100,200,300)，该设备具有：第一器件(201,301)，所述第一器件具有外表面和内表面，其中，所述第一器件(201,301)的外表面与所述第一器件(201,301)的内表面相对置，其中，所述第一器件(201,301)的内表面能布置在所述壳体表面的部分区域上；第二器件(202,302)，所述第二器件具有外表面和内表面，其中，所述第二器件(202,302)的外表面与所述第二器件(202,302)的内表面相对置，其特征在于，所述第二器件(202,302)的内表面布置在所述第一器件(201,301)的外表面上，其中，所述第一器件(201,301)能借助于能在所述第一器件(201,301)和所述第二器件(202,302)之间引入的流体沿第一轴线变形，并且所述第二器件(202,302)能沿第二轴线运动，其中，所述第二轴线垂直于所述第一轴线布置。

技术领域

本发明涉及一种用于清洁壳体表面的部分区域的设备和方法。

背景技术

文献GB 2535862 A1公开了一种清洁膜，该清洁膜布置在光学传感器的壳体上并且可以借助于齿轮运动。

文献DE 102016006039 A1公开了一种具有两个擦拭元件的清洁系统，利用所述擦拭元件来清洁光学传感器。

在此不利的是，这些系统不适用于具有大于180°、尤其360°大视野，的传感器，因为传感器的可用性与清洁装置的擦拭速度有关。此外不利的是，清洁装置永久地布置在传感器保护装置上。

发明内容

本发明的任务是，提高光学传感器或光电传感器的可用性。

用于清洁壳体表面的至少一个部分区域的设备包括第一器件，该第一器件具有外表面和内表面，其中，第一器件的外表面与第一器件的内表面相对置。第一器件的内表面可以布置在壳体表面的部分区域上。该设备包括第二器件，该第二器件具有外表面和内表面，其中，第二器件的外表面与第二器件的内表面相对置。根据本发明，第二器件的内表面布置在第一器件的外表面上，其中，第一器件能借助于可在第一器件和第二器件之间引入的流体沿第一轴线变形。第二器件可沿第二轴线运动，其中，第二轴线垂直于第一轴线布置。换言之，这涉及一种清洁设备，在该清洁设备中，第二器件是一种保持设备，在该第二器件的内表面上布置有可变形的器件。保持设备的内表面在此面向要清洁的对象。保持设备可以在要清洁对象的纵向轴线的方向上活动、移动或者说运动。由于第二器件的内表面布置在第一器件的外表面上的事实，第一器件和第二器件彼此机械连接。由于第二器件起到保持设备的作用，因此第一器件也可以沿第二轴线运动或者说第一器件随着第二器件一起运动。

在此优点是，通过第一器件与壳体表面的部分区域的直接接触进行清洁。

在一个扩展方案中，第一器件构型为部分环，尤其是半环。

在此有利的是，可以一次性清洁壳体表面的大部分。

在另一构型中，第一器件具有至少一个开口，该开口设置为用于使流体流出。

在此优点是，流体可以被用于支持机械清洁过程。

在一个扩展方案中，至少一个开口偏心地布置。换言之，该开口平行于第一轴线地位于第一器件上，即不位于第一器件的拱曲的中心。

在此有利的是，第一器件的拱曲起到壳体表面的部分区域的干燥单元的作用，即该拱曲起到流体去除器(Abzieher)的作用。

在一个构型中，所述至少一个开口具有喷嘴。喷嘴例如安装在膜片中或直接安装在支架上。

在此优点是，可以以较高的压力将流体施加到要清洁的表面上。