[发明专利]天然气处理装置以及天然气处理方法

说明书

本发明提供下述技术，即：用于在天然气的供给量减少的情况下，也稳定地进行天然气所含有的杂质的除去。天然气处理装置中，在天然气的液化前进行杂质除去处理，接下来进行烃分离工序25，使分离后的甲烷的一部分回收再利用于杂质除去设备群20的入口侧。因此，当井口的天然气的产出量变少而天然气的供给量变少时，也可使供给至杂质除去设备群20的气体的量增加。因此，可抑制伴随杂质除去处理群20中的被处理气体的减少的、处理效率的降低。

技术领域

本发明涉及一种进行天然气的处理的天然气处理装置。

背景技术

在用于对从井口产出的烃气体即天然气进行处理的天然气处理装置中，设有进行从液化前的天然气中除去各种杂质的预处理的预处理设备、及将预处理后的天然气液化而获得液化天然气(Liquidized Natural Gas，LNG)的液化设备。预处理设备中，为了防止冷却至-150℃以下的天然气在液化设备内的堵塞等，除了进行水分或二氧化碳的除去以外，还进行硫化氢的除去等杂质除去。

作为预处理设备的示例，在专利文献1中记载了吸收设备和吸附设备，所述吸收设备在由天然气或煤层气体(Coal seam gas，CSG)生成液化天然气(LNG)时，使液化前的天然气与N-甲基二乙醇胺(Methyldiethanolamine，MDEA)接触，将硫化氢或二氧化碳吸收除去，所述吸附设备使天然气在包括分子筛(吸附剂)容器的脱水设备(吸附塔)中流通，吸附除去水分等。

此外，在天然气田中，从开发到枯竭为止的气体的产出量在天然气开始产出后逐渐上升，以产出量高的状态进入稳定的期间(平台(plateau)期)。然后，继平台期之后进入产出量逐渐减少的减退期，最终天然气的产出结束。

伴随此种天然气的产出量的经过变化，在天然气处理装置中，供给至各设备的天然气的供给量变化。另一方面，包含所述吸收设备或吸附设备的除去杂质的预处理设备设计为：通常在对平台期的供给量的天然气进行处理时，处理效率变高。因此，存在下述问题，即：若进入产出量逐渐减少的减退期，则处理效率劣化。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特表2010-532796号公报

发明内容

发明所要解决的问题

本发明是在所述背景下完成，在于提供一种用于在天然气的供给量减少的情况下，也稳定地进行天然气所含有的杂质的除去的技术。

解决问题的技术手段

本发明的天然气处理装置包括：杂质除去设备群，包括从使用吸附剂将天然气所含的杂质吸附除去的吸附设备、和使天然气与吸收液接触而将天然气所含的杂质除去的吸收设备中选择至少一个的预处理设备，将经由供给管线供给的天然气所含的杂质除去；

蒸馏设备，将由所述杂质除去设备群进行了处理的天然气蒸馏分离为甲烷与碳数2以上的重质烃，并经由送气管线将所述甲烷进行送气；

回收再利用气体管线，将所述送气的甲烷的一部分进行分流，与从所述供给管线供给至杂质除去设备群的天然气合流。

所述天然气处理装置也可包括以下的特征。

(a)所述天然气处理装置包括：液化设备，用于将从所述蒸馏设备送气的甲烷液化。

(b)所述蒸馏设备对通过使所述天然气减压膨胀而使温度降低所得的气液混合体进行所述蒸馏分离，

所述送气管线包括将所述甲烷升压的压缩机，所述回收再利用气体管线设于从所述压缩机的出口侧将所述甲烷的一部分进行分流的位置。