[发明专利]聚合物、有机层组成物及形成图案的方法有效

专利信息
申请号: 201880079125.4 申请日: 2018-09-17
公开(公告)号: CN111542558B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 郑铉日;金瑆焕;金昇炫;朴裕信;朴惟廷;辛乘旭;林栽范 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: C08G61/12 分类号: C08G61/12;C09D183/04;G03F7/11;G03F7/09;H01L21/027;H01L21/033
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马爽;臧建明
地址: 韩国京畿道龙仁市器兴区贡税*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 聚合物 有机 组成 形成 图案 方法
【权利要求书】:

1.一种聚合物,包括

由化学式1表示的结构单元,以及

由化学式2或化学式3表示的结构单元:

[化学式1]

[化学式2]

[化学式3]

其中,在化学式1至化学式3中,

A为群组2的部分中的一者,

B为群组1的经取代或未经取代的部分中的一者,Ar1及Ar2独立地为经取代或未经取代的苯环或其稠环,m为介于0至5范围内的整数,且

*为连接点,

[群组2]

其中,在群组2中,

R1及R2独立地为氢、羟基、卤素、经取代或未经取代的C1至C30烷氧基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C1至C30杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基或其组合:

条件是在群组2中,每一部分的氢独立地由以下置换或未经置换:羟基、卤素、经取代或未经取代的C1至C30烷氧基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C1至C30杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基或其组合,

[群组1]

2.根据权利要求1所述的聚合物,其中在化学式2中,Ar1及Ar2独立地为经取代或未经取代的苯部分、经取代或未经取代的萘部分、经取代或未经取代的蒽部分、经取代或未经取代的菲部分、经取代或未经取代的稠四苯部分、经取代或未经取代的部分、经取代或未经取代的联亚三苯部分、经取代或未经取代的芘部分、经取代或未经取代的苝部分、经取代或未经取代的苯并苝部分或者经取代或未经取代的蔻部分。

3.根据权利要求1所述的聚合物,其中所述聚合物的重量平均分子量介于1,000至200,000范围内。

4.一种有机层组成物,包括:

聚合物,包括由化学式1表示的结构单元以及由化学式2或化学式3表示的结构单元;以及

溶剂:

[化学式1]

[化学式2]

[化学式3]

其中,在化学式1至化学式3中,

A为群组2的部分中的一者,

B为群组1的经取代或未经取代的部分中的一者,

Ar1及Ar2独立地为经取代或未经取代的苯环或其稠环,

m为介于0至5范围内的整数,且

*为连接点,

[群组2]

其中,在群组2中,

R1及R2独立地为氢、羟基、卤素、经取代或未经取代的C1至C30烷氧基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C1至C30杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基或其组合:

条件是在群组2中,每一部分的氢独立地由以下置换或未经置换:羟基、卤素、经取代或未经取代的C1至C30烷氧基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C1至C30杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基或其组合,

[群组1]

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