[发明专利]层叠薄膜、脱模薄膜和层叠体

权利要求书

1.一种层叠薄膜，其特征在于，其是在高分子薄膜的至少单面依次层叠A层和B层而成的层叠薄膜，所述A层和B层这两层含有氟化硅酮树脂，

所述A层和B层这两层含有氟原子，且B层的氟原子含有比例大于A层的氟原子含有比例，

A层的膜厚为50nm以上且1μm以下，B层的膜厚为5nm以上且1μm以下。

2.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述B层中的氟原子的含有比例相对于所述A层中的氟原子的含有比例为1.1倍以上。

3.一种层叠薄膜，其特征在于，其是在高分子薄膜的至少单面依次层叠A层和B层而成的层叠薄膜，所述A层和B层这两层含有氟化硅酮树脂，

所述B层含有氟原子，利用下述方法进行测定时的常态剥离力为100mN/cm以下，

常态剥离力的测定：

在层叠薄膜的B层表面贴合带硅酮粘合剂的胶带，在剥离速度为0.3m/分钟的条件下进行180°剥离试验，所述胶带为3M Japan Limited制、No5413胶带、50mm宽的胶带，

A层的膜厚为50nm以上且1μm以下，B层的膜厚为5nm以上且1μm以下，

B层的氟原子含有比例大于A层的氟原子含有比例。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的层叠薄膜，其中，所述高分子薄膜为双轴拉伸聚酯薄膜。

5.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述A层含有非氟化硅酮树脂和氟化硅酮树脂。

6.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述A层和B层是使固化性氟化硅酮树脂固化而形成的层。

7.根据权利要求1或3所述的层叠薄膜，其特征在于，关于使用飞行时间二次离子质谱分析仪即TOF-SIMS进行测定时的氟离子(F^-)含有比例与甲基硅氧烷离子(CH₃SiO₂^-)含有比例之比([F-]/[CH₃SiO₂^-])，A层为1以上且1000以下、B层为3以上且5000以下。

8.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，A层的氟原子含有比例即原子数分率为50ppm以上且小于900000ppm，且B层的氟原子含有比例即原子数分率为3000ppm以上且900000ppm以下。

9.一种脱模薄膜，其使用了权利要求1～8中任一项所述的层叠薄膜。

10.一种层叠体，其层叠有权利要求9所述的脱模薄膜和粘合剂层。

11.根据权利要求10所述的层叠体，其中，在不与所述A层接触一侧的B层的表面设置有粘合剂层。