[发明专利]真空沉积设备和用于涂覆基底的方法

权利要求书

1.一种真空沉积设备(1)，所述真空沉积设备(1)用于在移动的基底(S)上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层，所述设备包括真空室(2)，所述基底(S)能够沿给定路径(P)移动通过所述真空室(2)，其中所述真空室还包括：

-中央壳体(4)，所述中央壳体(4)包括蒸气喷射涂覆机(7)以及位于所述中央壳体的两个相对侧上的基底入口(5)和基底出口(6)，所述中央壳体的内壁适合于被加热至高于所述金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度，

-蒸气捕集器(8)，所述蒸气捕集器(8)位于所述中央壳体的所述基底出口(6)处呈外部壳体的形式，所述蒸气捕集器(8)包括与所述中央壳体相邻的向内开口(9)和位于所述蒸气捕集器的相对侧处的向外开口(10)，所述蒸气捕集器的内壁适合于保持在低于所述金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度下。

2.根据权利要求1所述的真空沉积设备，还包括位于所述中央壳体的所述基底入口(5)处的第二蒸气捕集器(8)。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的真空沉积设备，其中所述蒸气捕集器(8)在移动方向上的长度为所述基底宽度的0.5倍至3.5倍。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的真空沉积设备，其中所述蒸气捕集器(8)的所述向内开口(9)周围的壁垂直于所述基底路径(P)。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的真空沉积设备，其中所述蒸气捕集器的下壁和上壁向外汇聚。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的真空沉积设备，其中所述蒸气捕集器(8)在纵向截面中具有指向与所述中央壳体(4)相反的方向的梯形形状。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的真空沉积设备，其中所述蒸气捕集器(8)的所述内壁是可移除的。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的真空沉积设备，其中所述蒸气捕集器(8)的热调节为供应有选自水和氮的传热流体的冷却回路。

9.一种用于在移动的基底(S)上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层的方法，其中所述方法包括：

-第一步，其中将金属蒸气朝向所述移动的基底的至少一侧喷射并通过喷射的蒸气的第一部分的冷凝在所述侧上形成金属或金属合金的第一层，所述第一步在中央壳体(4)中进行，所述中央壳体(4)包括位于所述中央壳体的两个相对侧上的基底入口(5)和基底出口(6)以及被加热至高于所述金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度的内壁，

-第二步，其中通过喷射的蒸气的第二部分的冷凝在所述侧上形成金属或金属合金的第二层，所述第二步在蒸气捕集器(8)中进行，所述蒸气捕集器(8)位于所述中央壳体的所述基底出口(6)处呈外部壳体的形式并包括保持在低于所述金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度下的内壁。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述第二步还在位于所述中央壳体的所述基底入口(5)处的第二蒸气捕集器(8)中进行。

11.一种用于组装真空沉积设备的套件，所述真空沉积设备用于在移动的基底(S)上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层，所述套件包括：

-中央壳体(4)，所述中央壳体(4)包括位于所述中央壳体的两个相对侧上的基底入口(5)和基底出口(6)以及蒸气喷射涂覆机(7)的蒸气出口孔(71)，所述中央壳体的内壁适合于被加热至高于所述金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度，

-蒸气捕集器(8)，所述蒸气捕集器(8)适合于位于所述中央壳体的所述基底出口(6)处呈外部壳体的形式，所述蒸气捕集器(8)包括与所述中央壳体相邻的向内开口(9)和位于所述蒸气捕集器的相对侧处的向外开口(10)，所述蒸气捕集器的内壁适合于保持在低于所述金属或金属合金蒸气的冷凝温度的温度下。