[发明专利]造型系统

权利要求书

1.一种造型系统，其特征在于，包括：

造型装置，其进行造型处理，即，借由一面利用照射系统向对象物照射能量束，一面利用供给系统对所述能量束的照射区域供给造型材料而形成造型物；以及

变更装置，其可变更所述照射区域与所述对象物的相对位置；并且

一面变更所述对象物与所述照射区域之于第1方向上的位置关系一面对所述照射区域供给所述造型材料，对延伸于所述第1方向上的所述造型物的第1部分进行造型；

于与所述第1方向不同的第2方向上一面变更所述对象物与所述照射区域之位置关系一面对所述照射区域供给所述造型材料，对延伸于所述第2方向上的所述造型物的第2部分以与所述第1部分连接地进行造型；

使用于对所述第1部分的第1区域进行造型的所述造型处理的条件，与用于对所述第1区域与所述第2部分之间的所述第1部分的第2区域进行造型的所述造型处理的条件不同。

2.如权利要求1所述的造型系统，其特征在于，

借由使所述条件不同，而减少形成于所述第1区域的所述造型物的特性，与形成于所述第2区域的所述造型物的特性之差。

3.如权利要求2所述的造型系统，其特征在于，

所述造型物的特性包含从所述对象物的表面起的高度以及沿着所述对象物的表面的方向上的所述造型物的尺寸。

4.如权利要求1至3中任一项所述的造型系统，其特征在于，

所述造型处理的条件包含所述造型材料向所述照射区域中的供给量。

5.如权利要求4所述的造型系统，其特征在于，

于所述第1区域进行所述造型处理的情形时的所述供给量，较于所述第2区域进行所述造型处理的情形时的所述供给量少。

6.如权利要求4所述的造型系统，其特征在于，

控制所述供给系统而控制所述供给量。

7.如权利要求6所述的造型系统，其特征在于，

控制所述供给系统所供给的所述造型材料的量而控制所述供给量。

8.如权利要求6所述的造型系统，其特征在于，

控制来自所述供给系统的所述造型材料的供给方向而控制所述供给量。

9.如权利要求8所述的造型系统，其特征在于，

所述供给系统具备将所述造型材料向所需方向供给的供给喷嘴，并且

控制所述供给喷嘴的朝向而控制所述供给方向。

10.如权利要求1至3中任一项所述的造型系统，其特征在于，

进一步具备供给抑制装置，其抑制由所述供给系统所供给的所述造型材料的至少一部分到达所述照射区域。

11.如权利要求10所述的造型系统，其特征在于，

所述供给抑制装置包含以下装置中的至少一者：第1装置，其对由所述供给系统所供给的所述造型材料的至少一部分吹送气体而吹飞；以及第2装置，其包含以可插拔的方式配置于所述供给系统与所述照射区域之间且遮挡所述造型材料的遮蔽构件。

12.如权利要求1至3中任一项所述的造型系统，其特征在于，

所述造型处理的条件包含从所述能量束向所述对象物中设定有所述照射区域的区域部分的热的传递量。

13.如权利要求12所述的造型系统，其特征在于，

于所述第1区域设定有造型区域的情形时的所述传递量，较于所述第2区域设定有所述造型区域的情形时的所述传递量少。

14.如权利要求12所述的造型系统，其特征在于，

控制所述能量束的特性而控制所述传递量。