[发明专利]处理装置及处理方法、加工方法、造型装置、造型方法、计算机程序及记录媒体

权利要求书

1.一种处理装置，其特征在于，对造型物进行处理，所述造型物是通过对构件的第1表面照射造型用能量束，于所述第1表面形成熔融池，于所述熔融池中供给造型材料而被造型；

对于朝向与所述构件及所述造型物所排列的第1方向交叉的第2方向的所述造型物的第2表面的至少一部分照射加工用能量束。

2.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，

对所述构件与所述造型物的边界部分照射所述加工用能量束。

3.如权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，

所述加工用能量束对所述第2表面照射的第1区域的大小，大于所述造型用能量束对所述第1表面照射的第2区域的大小。

4.如权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，

于对所述造型物进行造型时所述造型用能量束向所述第1表面射出的相对于所述第2表面的方向，与所述加工用能量束向所述第2表面射出的相对于所述第2表面的方向彼此不同。

5.一种处理装置，其特征在于，对经使用造型用能量束积层造型后的造型物照射加工用能量束而对所述造型物进行处理；

所述造型物的表面的所述加工用能量束的点的大小，大于所述造型用能量束的点的大小。

6.如权利要求5所述的处理装置，其特征在于，

所述造型物包含多个构造层；

所述加工用能量束被照射于所述多个构造层之间。

7.如权利要求5或6所述的处理装置，其特征在于，

对所述造型物照射所述造型用能量束的方向，与对所述造型物照射所述加工用能量束的方向不同。

8.一种处理装置，其特征在于，对经使用造型用能量束积层造型后的造型物照射加工用能量束而对所述造型物进行处理；

所述造型物包含多个构造层；

在将于对所述造型物进行造型时照射所述造型用能量束的方向，以所述造型物为基准作为第1方向的情形，所述加工用能量束从以所述造型物为基准与所述第1方向不同的第2方向被照射于所述多个构造层之间。

9.如权利要求8所述的处理装置，其特征在于，进一步具备：

载置装置，载置所述造型物；

所述载置装置，于对所述造型物进行造型时以第1姿势载置所述造型物，于照射所述加工用能量束时以与所述第1姿势不同的第2姿势载置所述造型物。