[发明专利]包含抑制剂的锡或锡合金电镀组合物

权利要求书

1.一种含水组合物，其包含锡离子和至少一种式I化合物：

其中：

X¹、X²独立地选自直链或支化C₁-C₁₂烷二基，其可任选间隔有O或S，

R¹¹为式-(O-CH₂-CHR⁴¹)_m-OR⁴²的单价基团，

R¹²、R¹³、R¹⁴独立地选自H、R¹¹和R⁴⁰；

R¹⁵选自H、R¹¹、R⁴⁰和-X⁴-N(R²¹)₂，

X⁴为选自(a)直链或支化C₁-C₁₂烷二基和(b)式-(O-CH₂-CHR⁴¹)_o-的二价基团，

R²¹选自R¹¹和R⁴⁰，

R⁴⁰为直链或支化C₁-C₂₀烷基，

R⁴¹选自H和直链或支化C₁-C₅烷基，

R⁴²选自H和直链或支化C₁-C₂₀烷基，其可任选被羟基、烷氧基或烷氧羰基取代，

n为1-6的整数，

m为2-250的整数，且

o为1-250的整数。

2.如权利要求1所述的含水组合物，其中X¹和X²独立地选自C₁-C₆烷二基，优选为甲烷二基、乙烷二基或丙烷二基。

3.如权利要求1所述的含水组合物，其中X¹和X²为-(CHR⁴¹)_q-[Q-(CHR⁴¹)_r]_s-，其中Q选自O、S，其中q+r·s为间隔基中的C原子数。

4.如权利要求3所述的含水组合物，其中Q＝O且q＝r＝1或2。

5.如前述权利要求中任一项所述的含水组合物，其中R⁴¹选自H、甲基和乙基，优选为H和甲基。

6.如前述权利要求中任一项所述的含水组合物，其中R¹²、R¹³和R¹⁴选自R¹¹。

7.如前述权利要求中任一项所述的含水组合物，其中R¹⁵选自R¹¹和-X⁴-N(R²¹)₂。

8.如前述权利要求中任一项所述的含水组合物，其中R¹¹为氧化乙烯和其他C₃-C₄氧化烯的共聚物。

9.如权利要求8所述的含水组合物，其中在氧化乙烯和其他C₃-C₄氧化烯的共聚物中，氧化乙烯的含量为5-50重量％，优选为5-40重量％。

10.如权利要求8所述的含水组合物，其中在氧化乙烯和其他C₃-C₄氧化烯的共聚物中，氧化乙烯的含量为5-30重量％，优选为8-20重量％。