[发明专利]照明光学系统、曝光装置和物品制造方法

说明书

照明光学系统被配置为包括：第一光调制单元，包括多个光调制元件；第二光调制单元，包括多个光调制元件；以及成像光学系统，使用来自第一光调制单元和第二光调制单元的光在预定平面上形成光学像。

技术领域

本发明涉及照明光学系统、曝光装置和使用它们的物品制造方法。

背景技术

已知用于通过投影光学系统将原版(掩模)的图案转印到感光基板的曝光装置。近来，随着经受曝光装置的曝光的基板的尺寸增大，其中形成有图案的掩模也在增大。掩模的较大尺寸增加了掩模本身的成本，延长了掩模的制造时间，并且增加了掩模的制造成本。

在这种情况下，注意力集中在所谓的无掩模曝光装置上，该无掩模曝光装置能够在不使用其中形成有图案的掩模的情况下在基板上形成图案。无掩模曝光装置是使用诸如数字微镜器件(DMD)之类的光调制器的数字曝光装置。根据无掩模曝光装置，通过利用DMD生成与曝光图案对应的曝光光并且通过根据与曝光图案对应的图案数据对基板执行曝光，可以在不使用掩模的情况下在基板上形成图案。

专利文献(PTL)1公开了一种无掩模曝光装置，在该无掩模曝光装置中，通过使从激光发射单元发射的激光束入射在光调制单元的各个光调制元件上并且通过利用每个光调制元件将入射的激光束调制成曝光状态或非曝光状态来在基板上形成图案。

引用列表

专利文献

PTL 1：日本专利申请特开No.2004-62155

发明内容

技术问题

在PTL 1中公开的无掩模曝光装置中，排列有多个投影光学系统，每个投影光学系统包括一个DMD，并且利用由每个DMD形成的光学像作为点像(spot image)来曝光基板。随着经受无掩模曝光装置的曝光的基板的尺寸增大，要排列的投影光学系统的数量也增大。

要排列的投影光学系统的数量的增大进一步使重叠曝光区域的数量增大，在这些重叠曝光区域中，曝光由彼此相邻布置的投影光学系统以重叠状态执行。在重叠曝光区域中，在投影光学系统的布置误差等的影响下，曝光光的分辨性能趋于降低。因此，从增加在基板上形成的图案的精度的观点来看，优选的是尽可能地减少重叠曝光区域的数量。

本发明的目的是提供各自可以实现曝光光的分辨性能的提高的照明光学系统和曝光装置。

问题的解决方案

本发明提供了一种照明光学系统，该照明光学系统包括：第一光调制单元，包括多个光调制元件；第二光调制单元，包括多个光调制元件；以及成像光学系统，通过使用来自第一光调制单元和第二光调制单元的光在预定平面上形成光学像。

发明的有利效果

根据本发明，获得了各自能够实现曝光光的分辨性能的提高的照明光学系统和曝光装置。

附图说明

图1图示了根据第一实施例的照明光学系统的配置。

图2图示了根据第一实施例的光轴偏心单元的配置。

图3图示了XY平面中的反射镜的布置。

图4A图示了由来自DMD的光束形成的光学像。

图4B图示了由来自DMD的光束形成的光学像。

图5图示了根据本发明的包括投影光学系统的曝光装置的配置。

图6图示了根据第二实施例的照明光学系统的配置。

图7图示了根据第二实施例的光轴偏心单元的配置。

图8图示了XY平面中的反射镜的布置。