[发明专利]成膜方法

说明书

本发明的课题在于提供一种在通过气溶胶沉积法进行的成膜中，能够进行高精度地图案化的成膜的成膜方法。通过将包含成膜材料的原料液气溶胶化，向基材供给气溶胶，将成膜材料成膜于基材上时，基材在被成膜面上具有相对于原料液为疏液性的疏液区域及相对于原料液为亲液性的亲液区域，将疏液区域的宽度设为L，将气溶胶的直径设为D时，满足“D≥L/2”来解决课题。

技术领域

本发明涉及一种通过气溶胶沉积法进行的成膜方法。

背景技术

作为薄膜的成膜技术，将包含成膜材料的原料液气溶胶化，通过由载气传送而将所生成的气溶胶供给至基材，使附着于基材的气溶胶中的溶剂气化，由此将成膜材料成膜的技术。该成膜技术也称作气溶胶沉积法。

气溶胶沉积法相比喷墨及喷雾涂布等的成膜中的液滴通过非常小的气溶胶进行成膜。

因此，根据气溶胶沉积法，能够精密地形成相对于基材的凹凸等的追随性(覆盖性)高且厚度均匀的膜。

通过喷墨进行的成膜中，能够在目标位置选择性地滴落液滴。例如，喷墨中，通过根据目标配线图案滴落油墨液滴，能够形成配线图案。

相对于此，气溶胶沉积法中，则基本上向基材的整个表面大致均匀地供给气溶胶。即，气溶胶沉积法中，无法对基材上的所希望的位置选择性地进行成膜。

相对于此，提出了通过在基材上图案化形成对原料液具有疏液性的疏液区域及对原料液具有亲液性的亲液区域，而通过气溶胶沉积法，在基材的所希望的区域进行成膜，从而形成与配线图案等对应的膜。

例如，专利文献1中记载有一种器件制造方法，该方法具备：将亲疏液性因光能量的照射而改性的功能层形成于基材(基板)的表面的工序；向基材上的功能层照射经图案化的光能量，而生成由亲疏液性赋予对比度的图案的光图案化工序；及使包含用于电子器件的材料物质的分子或粒子的功能性溶液成为气溶胶(雾)，且向在光图案化工序中经处理的基材的表面喷射将气溶胶混合于载气中而得的气体的堆积工序。

专利文献1：国际公开第2013/176222号

如专利文献1中所记载，通过在基材形成亲液区域及疏液区域，能够抑制气溶胶附着于疏液区域，从而使气溶胶仅选择性地附着于亲液区域。

因此，通过根据目标膜的图案在基材形成疏液区域及亲液区域，能够通过气溶胶沉积法将目标图案的膜成膜。

然而，如上所述，气溶胶沉积法中供给到成膜的气溶胶相比喷墨等液滴非常小。

因此，即使在基材上图案化形成疏液区域及亲液区域，有时也未必一定能高精度地形成目标图案。

发明内容

本发明的目的为解决这些先前技术的问题点，提供一种能够通过气溶胶沉积法高精度地进行目标图案的成膜的成膜方法。

为了解决该课题，本发明具有以下构成。

[1]一种成膜方法，其特征在于，将包含成膜材料的原料液气溶胶化，向基材供给气溶胶，将成膜材料成膜于基材上时，

基材在被成膜面上具有相对于原料液为疏液性的疏液区域及相对于原料液为亲液性的亲液区域，

将疏液区域的宽度设为L，将气溶胶的直径设为D时，满足“D≥L/2”。

[2]如[1]所示的成膜方法，其中，一边使基材振动，一边向基材供给气溶胶。

[3]如[1]或[2]所述的成膜方法，其中，一边加热基材，一边向基材供给气溶胶。

[4]如[3]所述的成膜方法，其中，将基材加热成基材的表面温度成为100℃以上。

[5]如[3]或[4]所述的成膜方法，其中，包含于原料液的溶剂或分散介质的沸点为100℃以下。