[发明专利]偏振片用层叠体、偏振片及它们的制造方法

权利要求书

1.一种偏振片用层叠体，其具有包含环烯烃系树脂的树脂膜和聚乙烯醇层，

所述聚乙烯醇层通过涂敷层叠于所述树脂膜的至少一侧的面，

所述聚乙烯醇层直接层叠于所述树脂膜，

所述环烯烃系树脂包含环烯烃系聚合物，

所述环烯烃系聚合物为将嵌段共聚物D进行了氢化的嵌段共聚物氢化物，

所述嵌段共聚物D包含聚合物嵌段A和聚合物嵌段B、或者包含聚合物嵌段A和聚合物嵌段C，

所述聚合物嵌段A以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元I为主成分，

所述聚合物嵌段B以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元I和来自链状共轭二烯化合物的重复单元II为主成分，

所述聚合物嵌段C以来自链状共轭二烯化合物的重复单元II作为主成分，

所述树脂膜的拉伸物的面内方向的相位差Re2为0nm以上且20nm以下，所述相位差Re2为将所述层叠体在50℃～120℃的温度条件下进行自由端单轴拉伸至6.0倍而将所述树脂膜制成所述拉伸物时，所述拉伸物具有的相位差，

所述树脂膜含有有机金属化合物，所述有机金属化合物的比例相对于100重量份的形成所述树脂膜的所述环烯烃系树脂为0.05重量份以上且1.0重量份以下。

2.根据权利要求1所述的偏振片用层叠体，其中，所述聚乙烯醇层的厚度T为45μm以下。

3.根据权利要求1或2所述的偏振片用层叠体，其中，所述环烯烃系树脂含有增塑剂或软化剂、或者增塑剂和软化剂这两者。

4.根据权利要求3所述的偏振片用层叠体，其中，所述增塑剂或软化剂、或者增塑剂和软化剂这两者选自酯系增塑剂和脂肪族烃聚合物中的一种以上。

5.一种偏振片，其是对权利要求1～4中任一项所述的偏振片用层叠体进行单轴拉伸而形成的。

6.一种偏振片用层叠体膜卷，其具有权利要求1～4中任一项所述的偏振片用层叠体和分隔膜，

所述分隔膜层叠于所述层叠体的树脂膜的、与所述聚乙烯醇层相对侧的面，

所述偏振片用层叠体膜卷卷绕为卷状。

7.一种偏振片的制造方法，是使用权利要求1～4中任一项所述的偏振片用层叠体来制造偏振片的方法，包含以下工序：

第三工序，使用二向色性染料对所述层叠体进行染色，

第四工序，对所述层叠体进行单轴拉伸。

8.一种偏振片的制造方法，包含以下工序：

制造偏振片用层叠体的工序，

第三工序，使用二向色性染料对所述层叠体进行染色，

第四工序，以30℃以上且90℃以下的拉伸温度和5.0以上且7.0以下的拉伸倍率对所述层叠体进行单轴拉伸，

所述制造偏振片用层叠体的工序依次包含以下工序：

第一工序，将聚乙烯醇树脂涂敷于包含环烯烃系树脂的树脂膜的至少一侧的面而形成聚乙烯醇层，

第二工序，使所述第一工序所形成的聚乙烯醇层干燥，

所述环烯烃系树脂包含环烯烃系聚合物，

所述环烯烃系聚合物为将嵌段共聚物D进行了氢化的嵌段共聚物氢化物，

所述嵌段共聚物D包含聚合物嵌段A和聚合物嵌段B、或者包含聚合物嵌段A和聚合物嵌段C，

所述聚合物嵌段A以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元I为主成分，

所述聚合物嵌段B以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元I和来自链状共轭二烯化合物的重复单元II为主成分，

所述聚合物嵌段C以来自链状共轭二烯化合物的重复单元II为主成分，

所述树脂膜含有有机金属化合物，所述有机金属化合物的比例相对于100重量份的形成所述树脂膜的所述环烯烃系树脂为0.05重量份以上且1.0重量份以下。

9.根据权利要求8所述的偏振片的制造方法，通过选自溶液涂敷法、乳液涂敷法或熔融挤出涂敷法中的一种以上的方法形成所述聚乙烯醇层。

10.根据权利要求8或9所述的偏振片的制造方法，经过所述第三工序、所述第四工序或它们两者后，包含：

第五工序，将保护膜贴合于所述层叠体的聚乙烯醇层的、与树脂膜相对侧的面。