[发明专利]晶片表面曲率确定系统

权利要求书

1.一种用于对晶片(2)的表面(20)的曲率(200)进行原位测量的系统(1)，所述系统(1)包括：

多波长光源模块(101)，所述多波长光源模块(101)适于发射包括多个波长的入射光(3)；

光学装置(104)，所述光学装置(104)被配置为将所述入射光(3)组合成单个光束(5)，并且还被配置为朝向晶片(2)的表面(20)引导所述单个光束(5)，使得所述单个光束(5)在所述表面(20)上的单个测量光斑(202)处撞击所述表面(20)；以及

曲率确定单元(103)，所述曲率确定单元(103)被配置为：根据与在所述单个测量光斑(202)处在所述表面(20)上被反射的所述单个光束(5)相对应的反射光(4)，确定所述晶片(2)的所述表面(20)的曲率(200)；

偏转检测器(102)，所述偏转检测器(102)适于收集与在单个测量光斑(202)处在所述表面(20)上被反射的所述单个光束(5)相对应的所述反射光(4)；其中，所述偏转检测器(102)包括位置检测器(120)；

基座(105)，所述晶片(2)被装载到所述基座(105)上；并且其中，所述基座(105)在垂直于所述单个光束(5)的平面中旋转，使得所述基座(105)的基座旋转轴(151)平行于所述单个光束(5)；

其中，所述曲率确定单元(103)还被配置为：当所述单个光束(5)在所述晶片(2)的所述表面(20)上的单个测量光斑(202)处反射时，确定由所述反射光(4)在所述偏转检测器(102)上形成的单个反射光斑(311)的位置(31)；

并且其中，所述曲率确定单元(103)还被配置为：通过根据所述基座(105)的旋转角度将所述反射光(4)在所述位置检测器(120)上的在单个反射光斑(311)处的偏转进行拟合，来确定所述晶片(2)的所述表面(20)的所述曲率(200)。

2.根据权利要求1所述的系统(1)，其中，所述多波长光源模块(101)包括以下中的一者或更多者：

两个或更多个激光源(111；112；113)，其中，所述多个波长中的至少两个波长彼此分开至少5nm；

白光源(114)；

宽带光源(115)。

3.根据权利要求1或2所述的系统(1)，其中，所述多个波长中的至少两个波长彼此分开至少5nm。

4.根据权利要求1所述的系统(1)，其中，所述位置检测器(120)定位在所述系统(1)中，使得所述位置(31)在所述位置检测器(120)上。

5.根据权利要求1所述的系统(1)，其中，所述光学装置(104)还适于朝向所述晶片(2)的表面(20)引导所述单个光束(5)，使得所述单个光束(5)在与所述基座旋转轴(151)相距给定半径(201)处在所述晶片(2)的所述表面(20)上反射。

6.根据权利要求4所述的系统(1)，其中，所述系统(1)还包括基座(105)和装载到所述基座(105)上的多个晶片(2)；并且其中，所述基座(105)在垂直于所述入射光(3)的平面(150)中旋转，使得所述基座(105)的基座旋转轴(151)平行于所述入射光(3)。

7.根据权利要求6所述的系统(1)，其中，所述光学装置(104)还适于朝向所述多个晶片(2)的表面(20)引导所述单个光束(5)，使得所述单个光束(5)在与所述基座旋转轴(151)相距给定半径(201)处在所述多个晶片(2)的所述表面(20)上反射。

8.根据权利要求6或7所述的系统(1)，其中，所述曲率确定单元(103)还被配置为：通过根据所述基座(105)的旋转角度导出所述反射光(4)在所述位置检测器(120)上的偏转，确定所述多个晶片(2)的所述表面(20)中的每个表面的所述曲率(200)。