[发明专利]全屏任意拼接的校正方法、校正装置及校正系统有效

专利信息
申请号: 201880083292.6 申请日: 2018-08-31
公开(公告)号: CN111527539B 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 杨城;艾泳宏;王雨 申请(专利权)人: 西安诺瓦星云科技股份有限公司
主分类号: G09G3/32 分类号: G09G3/32
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 董文倩
地址: 710075 陕西省西安市高新区丈八*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 全屏 任意 拼接 校正 方法 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种用于全屏任意拼接的校正方法,其特征在于,包括:

获取拼接式显示屏显示目标画面时的采集图像;

对所述采集图像进行图像信息处理,以获取所述拼接式显示屏的多个像素颜色信息数据;

基于所述多个像素颜色信息数据进行曲面模拟,以得到像素颜色信息分布曲面,包括:对所述多个像素颜色信息数据进行预处理,以得到多个预处理后像素颜色信息数据;

基于所述多个像素颜色信息数据和所述像素颜色信息分布曲面,得到多个真实像素颜色信息数据;

设定校正目标颜色信息数据、并将所述多个真实像素颜色信息数据作为初始颜色信息数据,以得到所述拼接式显示屏的多个像素的颜色信息校正系数;

将所述多个像素的所述颜色信息校正系数上传至所述拼接式显示屏;

其中,对所述多个像素颜色信息数据进行预处理,以得到多个预处理后像素颜色信息数据包括:将所述多个像素颜色信息数据按照大小顺序排序,将所述多个像素颜色信息数据中大于第一阈值的像素颜色信息数据对应的像素点确定为异常亮点、并将所述多个像素颜色信息数据的中值设置为所述异常亮点的像素颜色信息数据。

2.根据权利要求1所述的全屏任意拼接的校正方法,其特征在于,

基于所述多个像素颜色信息数据进行曲面模拟,以得到像素颜色信息分布曲面的步骤包括:基于所述多个预处理后像素颜色信息数据进行所述曲面模拟,以得到所述像素颜色信息分布曲面;

基于所述多个像素颜色信息数据和所述像素颜色信息分布曲面,得到多个真实像素颜色信息数据的步骤包括:基于所述多个预处理后像素颜色信息和所述像素颜色信息分布曲面,得到所述多个真实像素颜色信息数据。

3.根据权利要求1所述的全屏任意拼接的校正方法,其特征在于,所述多个像素颜色信息数据为多个亮度数据或者多个亮色度数据。

4.根据权利要求1所述的全屏任意拼接的校正方法,其特征在于,对所述多个像素颜色信息数据进行预处理,以得到多个预处理后像素颜色信息数据的步骤包括:

确定所述拼接式显示屏的亮暗块的位置,调整所述亮暗块的亮度。

5.根据权利要求4所述的全屏任意拼接的校正方法,其特征在于,所述多个像素颜色信息数据进行预处理,以得到多个预处理后像素颜色信息数据的步骤包括:

将所述多个像素颜色信息数据中小于第二阈值的像素颜色信息数据对应的像素点确定为异常暗点、并将所述异常暗点的像素颜色信息数据设为0以去除所述异常暗点的影响。

6.根据权利要求5所述的全屏任意拼接的校正方法,其特征在于,

所述第一阈值为所述多个像素颜色信息数据中处于第一百分比位置的像素颜色信息数据的第一倍数;和/或

所述第二阈值为所述多个像素颜色信息数据中处于第二百分比位置的像素颜色信息数据的第二倍数。

7.根据权利要求6所述的全屏任意拼接的校正方法,其特征在于,所述第一百分比位置对应的第一百分比大于所述第二百分比位置对应的第二百分比,所述第一倍数大于1,所述第二倍数小于0.5。

8.根据权利要求4所述的全屏任意拼接的校正方法,其特征在于,调整所述亮暗块的亮度的步骤包括:

取与所述亮暗块相邻的n列或m行像素点的像素颜色信息数据累加求取第一均值;

在所述亮暗块内邻近所述n列或m行像素点的位置取n列或m行像素点的像素颜色信息数据累加求取第二均值;

基于所述第一均值和所述第二均值的比值得出调整系数;

基于所述调整系数调整所述亮暗块内各个像素点的所述像素颜色信息数据。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安诺瓦星云科技股份有限公司,未经西安诺瓦星云科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880083292.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top