[发明专利]凹凸构造体、光学部件及电子设备有效
申请号: | 201880083625.5 | 申请日: | 2018-12-18 |
公开(公告)号: | CN111527421B | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 菊池正尚;田泽洋志;林部和弥 | 申请(专利权)人: | 迪睿合株式会社 |
主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;G02B5/02;G02B5/18 |
代理公司: | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人: | 刘昕;孟祥海 |
地址: | 日本国东京都品川区大崎*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 凹凸 构造 光学 部件 电子设备 | ||
1.一种凹凸构造体,其具备多个由设置在基材的表面的多个凸部构成的集合构造,
所述凸部在所述基材的表面所占的区域的平均宽度为,属于可见光范围的波长以下,
在所述集合构造内,所述凸部被设置为所述凸部的高度越是朝向所述集合构造的中央则越阶段性地增加,所述集合构造作为整体被形成为凸透镜形状的构造体。
2.根据权利要求1所述的凹凸构造体,其中,
所述多个集合构造在所述基材 的表面上以彼此隔离的方式排列,
相互相邻的所述集合构造之间为平坦面。
3.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
所述凸部在所述基材的表面所占的区域的平均宽度设为a,所述凸部的与所述基材的表面对置的底面或顶面的平均宽度设为b,所述凸部的相对于所述基材的表面的垂直方向的长度设为h的情况下,
在所述垂直方向上自所述基材的表面起远离h/2的位置处的所述凸部的截面的平均宽度为(a+b)/2以上。
4.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
该凸部在所述基材的表面所占的区域的平均宽度分别设为x1及x2的情况下,所述集合构造内相邻的所述凸部的重心间的平均距离为0.65(x1/2+x2/2)以上2.0(x1/2+x2/2)以下。
5.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
所述集合构造整体的平均宽度为0.2μm以上。
6.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
在所述基材的表面上所述凸部所占的区域的形状为大致圆形状。
7.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
在所述集合构造内,所述凸部的高度的每一个属于中心值不同的至少2个以上的组中的任一项。
8.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
在所述集合构造内,所述凸部在所述基材的表面所占的区域的平均宽度的每一个属于中心值不同的至少2个以上的组中的任一项。
9.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
所述凸部的高度,在所述集合构造内阶段性地变化。
10.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
所述凸部在所述基材的表面所占的区域的平均宽度,在所述集合构造内阶段性地变化。
11.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
所述凸部在所述基材的表面所占的区域的平均宽度,在所述集合构造内不规则地变化。
12.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
所述集合构造的每一个被规则地排列。
13.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
所述集合构造的每一个被不规则地排列。
14.根据权利要求1或2所述的凹凸构造体,其中,
在所述集合构造内,所述凸部的每一个以最密填充配置的方式设置。
15.一种光学部件,其使用了权利要求1~14中的任一项所述的凹凸构造体、或者使用了将所述凹凸构造体转印了的转印物。
16.一种电子设备,其使用了权利要求1~14中的任一项所述的凹凸构造体、或者使用了将所述凹凸构造体转印了的转印物。
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