[发明专利]光学层叠体的制造方法、光学层叠体及图像显示装置

权利要求书

1.一种光学层叠体的制造方法，其为制作具有光取向层及光吸收各向异性层、且正面透射率为60％以下的光学层叠体的制造方法，所述光学层叠体的制造方法具有：

光取向层形成工序，在聚合物薄膜上形成光取向层，其中，所述光取向层为由含有具有肉桂酰基及自由基聚合性基团的化合物的组合物所形成的层；及

光吸收各向异性层形成工序，在所述光取向层上涂布含有二色性物质及具有自由基聚合性基团的高分子液晶性化合物的液晶组合物而形成光吸收各向异性层。

2.根据权利要求1所述的光学层叠体的制造方法，其中，

在所述光取向层形成工序与所述光吸收各向异性层形成工序之间，具有使所述光取向层的涂布所述液晶组合物的一侧的表面与输送辊接触的工序。

3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，其中，

在所述光取向层形成工序与所述光吸收各向异性层形成工序之间，具有卷取形成有所述光取向层的聚合物薄膜的工序。

4.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，其中，

所述光取向层形成工序具有：将所述组合物涂布于所述聚合物薄膜上而形成涂膜的工序；通过加热使所述涂膜干燥的工序；及对干燥后的所述涂膜照射偏振光或对所述涂膜表面从倾斜方向照射非偏振光的工序。

5.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，其中，

所述光吸收各向异性层形成工序具有：将所述液晶组合物涂布于所述光取向层上而形成涂膜的工序；及使所述涂膜中所包含的液晶性成分取向的工序。

6.一种光学层叠体，其为具有光取向层及光吸收各向异性层、且正面透射率为60％以下的光学层叠体，其中，

所述光取向层为由含有具有肉桂酰基及自由基聚合性基团的化合物的组合物所形成的层，

所述光吸收各向异性层为由含有二色性物质及具有自由基聚合性基团的高分子液晶性化合物的液晶组合物形成的层。

7.根据权利要求6所述的光学层叠体，其中，

所述液晶组合物中的所述高分子液晶性化合物的固体成分比例为55质量％以上且95质量％以下，所述二色性物质的固体成分比例为2质量％以上且35质量％以下。

8.根据权利要求6或7所述的光学层叠体，其中，

所述液晶组合物中的所述高分子液晶性化合物的固体成分比例为75质量％以上且95质量％以下，所述二色性物质的固体成分比例为5质量％以上且25质量％以下。

9.根据权利要求6或7所述的光学层叠体，其中，

所述液晶组合物含有具有下述式(1)所表示的重复单元的高分子液晶性化合物，

其中，所述式(1)中，

R表示氢原子或甲基；

L表示单键或2价的连接基团；

B表示氢原子、卤原子、氰基、烷基、烷氧基、氨基、氧羰基、酰氧基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、磺酰氨基、氨磺酰基、氨甲酰基、烷硫基、磺酰基、亚磺酰基、脲基或交联性基团；

M表示下述式(1-1)所表示的介晶基团；

其中，所述式(1-1)中，

Ar¹¹及Ar¹²分别独立地表示可以具有取代基的亚苯基或亚联苯基；

L¹¹及L¹²分别独立地表示单键或不包含偶氮基的2价的连接基团；

Y表示亚氨基、-OCO-CH＝CH-基、或-CH＝CH-CO₂-基；

m1及m2分别独立地表示1～3的整数；

当m1为2～3的整数时，多个Ar¹¹分别可以相同也可以不同，多个L¹¹分别可以相同也可以不同；

当m2为2～3的整数时，多个Ar¹²分别可以相同也可以不同，多个L¹²分别可以相同也可以不同。