[发明专利]用于制备多层光学层合体的方法在审
申请号: | 201880084281.X | 申请日: | 2018-12-19 |
公开(公告)号: | CN111511548A | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 齐藤一太;高森克也 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | B32B17/10 | 分类号: | B32B17/10 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 孙微;孙进华 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制备 多层 光学 合体 方法 | ||
1.一种制备层合制品的方法,包括:
提供具有第一主表面和第二主表面的第一玻璃基底,其中所述第一玻璃基底的第二主表面不含粘合剂层;
提供具有第一主表面和第二主表面的第二玻璃基底,其中所述第二玻璃基底的第一主表面不含粘合剂层;
提供具有第一主表面和第二主表面的第一光学膜,所述第一光学膜包括一个或多个聚合物材料层,并且其中所述第一光学膜的第一主表面和第二主表面不含粘合剂层;
通过以下方式制备多层构造:将所述第一玻璃基底、所述第一光学膜和所述第二玻璃基底布置成使得所述第一玻璃基底的第二主表面邻近所述第一光学膜的第一主表面,并且所述第一光学膜的第二主表面邻近所述第二玻璃基底的第一主表面;
将所述多层构造置于真空室中;
向容纳所述多层构造的所述真空室施加真空,使得所述第一玻璃基底的第二主表面与所述第一光学膜的第一主表面直接表面接触,并且所述第二玻璃基底的第一主表面与所述第一光学膜的第二主表面直接表面接触;
从所述真空室释放真空;
从所述真空室移除所述多层构造,并将所述多层构造置于能够提供热量和/或压力的装置中;
将所述能够提供热量和/或压力的装置的温度升高并保持到处于或高于所述第一光学膜的第一主表面和第二主表面的聚合物材料的软化温度的温度,同时向所述多层构造施加大于大气压力的压力;
使所述能够提供热量和/或压力的装置的温度降低至室温;以及
将所述大于大气压力的压力释放到所述多层构造,以形成多层制品,所述多层制品为光学清晰的并且未展现出所述第一光学膜对反射光的散射。
2.根据权利要求1所述的方法,还包括:
提供具有第一主表面和第二主表面的第三玻璃基底,其中所述第三玻璃基底的第一主表面不含粘合剂层;
提供具有第一主表面和第二主表面的第二光学膜,所述第二光学膜包括一个或多个聚合物材料层,并且其中所述第二光学膜的第一主表面和第二主表面不含粘合剂层;并且其中制备所述多层构造还包括将所述第二光学膜和所述第三玻璃基底布置成使得所述第二光学膜的第一主表面邻近所述第二玻璃基底的第二主表面,并且所述第二光学膜的第二主表面邻近所述第三玻璃基底的第一主表面。
3.根据权利要求1所述的方法,还包括:
提供具有第一主表面和第二主表面的第三玻璃基底,其中所述第三玻璃基底的第一主表面不含粘合剂层;
提供具有第一主表面和第二主表面的第二光学膜,所述第二光学膜包括一个或多个聚合物材料层,并且其中所述第二光学膜的第一主表面和第二主表面不含粘合剂层;
提供具有第一主表面和第二主表面的第三光学膜,所述第三光学膜包括一个或多个聚合物材料层,并且其中所述第三光学膜的第一主表面和第二主表面不含粘合剂层;并且其中制备所述多层构造还包括将所述第二光学膜、所述第三光学膜和所述第三玻璃基底布置成使得所述第二光学膜的第一主表面邻近所述第二玻璃基底的第二主表面,所述第三光学膜的第一主表面邻近所述第二光学膜的第二主表面,并且所述第三光学膜的第二主表面邻近所述第三玻璃基底的第一主表面。
4.根据权利要求1所述的方法,其中制备所述多层构造包括将所述第一玻璃基底和所述第二玻璃基底以及所述第一光学膜置于框架中,其中所述框架包括第一板和第二板,使得所述第一板与所述第一玻璃基底的第一主表面接触并且所述第二板与所述第二玻璃基底的第二主表面接触。
5.根据权利要求4所述的方法,其中每个板包含至少一个孔,其中所述孔连接到压缩空气压力源,并且其中所述第一板中的孔与所述第一玻璃基底流体接触,并且所述第二板中的孔与所述第二玻璃基底流体接触,使得向所述多层构造施加大于大气压力的压力包括通过所述第一板和所述第二板中的孔施加压缩空气压力。
6.根据权利要求1所述的方法,其中升高和保持所述能够提供热量和/或压力的装置的温度包括使所述温度升高到至少120℃并保持至少30分钟。
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