[发明专利]从设备部件中移除污染物颗粒的设备和方法

说明书

一种用于从设备(140，MT)的部件(202、204)移除污染物颗粒(205)的设备(300)，所述污染物颗粒产生环境电场(E)，所述设备包括：用于吸引所述颗粒的收集区域(301)，其中，所述环境电场至少在所述部件与所述收集区域之间；和电场发生器，所述电场发生器被配置成在所述收集区域与所述部件之间建立施加电场以使所述颗粒从所述部件传输到所述收集区域，其中所述电场发生器被配置成基于环境电场来确定所施加电场的极性。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年12月28日提交的欧洲申请17210857.3和2018年3月6日提交的欧洲申请18160148.5的优先权，所述欧洲申请的全部内容通过引用的方式合并入本文中。

技术领域

本公开涉及用于从设备(可选地，量测设备)的部件中移除污染物颗粒的方法和设备。

背景技术

在光刻过程中，需要对所创建的结构进行频繁的测量，例如，用于过程控制和验证。进行这些测量的工具通常称为量测工具(MET)。用于进行这些测量的不同类型的量测工具是已知的，包括扫描电子显微镜或各种形式的散射仪量测工具。

散射仪是多用途仪器，通过在散射仪物镜的光瞳或与光瞳共轭的平面上安装传感器来允许进行对光刻过程的参数的测量，通常称为基于光瞳的测量，或者通过使传感器位于图像平面或与图像平面共轭的平面，在这种情况下，测量通常被称为基于图像或基于场的测量。

在专利申请US20100328655、US2011102753A1、US20120044470A、US20110249244、US20110026032或EP1628164A中进一步描述了这些散射仪和相关联的测量技术，这些专利申请通过引用全部并入本文中。上述散射仪可使用来自软x射线、极紫外(EUV)和可见光至近红外波长范围的辐射来测量光栅。

有时，污染物颗粒(诸如聚酯或纤维素颗粒/纤维)可能附着在量测工具的部件上，例如，附着在形成散射仪的一部分的光学物镜上。量测工具内存在着若干潜在的污染物颗粒源，诸如在工具维修和维护期间所使用的清洁擦拭件。包含有被测结构的半导体晶片本身可能由于晶片输送系统或用于存储和运输晶片的前开式统集盒或前开式晶片传送盒(FOUP)中的污染而将污染物颗粒引入量测工具内。

发明人已经认识到，在某些情况下，这种污染物颗粒会导致量测工具对被测晶片造成损坏，这是不期望的，因为它会导致较低的产率。例如，污染物颗粒也可能影响量测工具在准确度方面的性能。

因此，本发明解决的问题是如何从设备移除污染物颗粒。该设备可以是一种量测工具。

发明内容

根据本发明的一个方面，提供了一种用于从设备的部件移除污染物颗粒的设备，所述污染物颗粒产生环境电场，所述设备包括：用于吸引所述颗粒的收集区域，其中所述环境电场至少在所述部件与所述收集区域之间；和电场发生器，其被配置成在所述收集区域与所述部件之间建立所施加电场以使所述颗粒从所述部件传输到所述收集区域，其中，电场发生器被配置成基于所述环境电场来确定所施加电场的极性。

根据本发明的另一方面，提供了一种用于从设备的部件移除污染物颗粒的设备，所述污染物颗粒产生环境电场，所述设备包括：用于吸引所述颗粒的收集区域，其中所述环境电场至少在所述部件与所述收集区域之间；电场发生器；和处理器，所述处理器被配置成执行以下步骤：基于所述环境电场来确定所施加电场的极性；使电场发生器在所述收集区域与所述部件之间建立所施加电场，以使所述颗粒从所述部件传输到所述收集区域。

所施加电场的极性可能与所述环境电场的极性相反。

电场发生器可被配置成基于以下一个或多个来确定所施加电场的量值：环境电场的量值；将所述颗粒保持在所述部件上的粘附力的估计；将颗粒保持在部件上的范德华力的估计。