[发明专利]用于确定衬底上的结构的感兴趣的特性的量测设备与方法

权利要求书

1.一种用于确定衬底上的结构的感兴趣的特性的量测设备，所述结构具有衍射性质，所述设备包括：

聚焦光学器件，所述聚焦光学器件被配置成将包括多个波长的照射辐射聚焦至所述结构上；

第一检测器，所述第一检测器被配置成检测已从所述结构被衍射的照射辐射的至少一部分；以及

附加光学器件，所述附加光学器件被配置成在所述第一检测器的至少一部分上产生已从所述结构被衍射的照射辐射的不同波长的依赖于波长的空间分布，

其中所述第一检测器被布置成检测已从所述结构被衍射的照射辐射的至少非零衍射阶。

2.根据权利要求1所述的量测设备，其中所述第一检测器被布置成检测已从所述结构被衍射的照射辐射的+1衍射阶或-1衍射阶中的至少一个衍射阶。

3.根据权利要求1或2所述的量测设备，还包括被配置成检测已从所述结构被衍射的照射辐射的至少一部分的第二检测器，所述附加光学器件还被配置成在所述第二检测器的至少一部分上产生已从所述结构被衍射的照射辐射的不同波长的依赖于波长的空间分布，其中所述第一检测器与所述第二检测器被布置成检测不同的衍射阶。

4.根据权利要求3所述的量测设备，其中所述第一检测器和所述第二检测器被布置成分别检测+1衍射阶和-1衍射阶。

5.根据前述权利要求中任一项所述的量测设备，其中所述照射辐射包括极紫外范围内的辐射。

6.根据前述权利要求中任一项所述的量测设备，其中所述附加光学器件包括分离光学器件，所述分离光学器件被配置成，在所述第一检测器和/或所述第二检测器的至少一部分上，对已从所述结构被衍射的照射辐射的不同波长进行空间分离。

7.根据权利要求6所述的量测设备，其中所述分离光学器件还被配置成，在所述第一检测器和/或所述第二检测器的至少一不同部分上，对已从所述结构被衍射的照射辐射的不同波长进行空间组合。

8.根据权利要求6或7所述的量测设备，其中所述分离光学器件包括衍射元件与聚焦元件的组合。

9.根据权利要求8所述的量测设备，其中所述聚焦元件是掠入射反射镜，并且其中可选地，所述反射镜是圆柱形反射镜或环形反射镜。

10.根据权利要求1至5中任一项所述的量测设备，其中所述附加光学器件包括掩模层，所述掩模层被配置成，在所述第一检测器和/或所述第二检测器的至少一部分上，对已从所述结构被衍射的照射辐射的不同波长进行空间分离。

11.根据权利要求1至5中任一项所述的量测设备，其中所述附加光学器件包括散射元件。

12.根据权利要求11所述的量测设备，其中所述散射元件被布置成在已从所述结构被衍射的照射辐射中产生散斑图案，其中所述第一检测器被布置成检测所述散斑图案的至少一部分。

13.根据权利要求11或12所述的量测设备，其中所述散射元件包括准随机图案或非周期性图案。

14.一种使用量测设备来确定衬底上的结构的感兴趣的特性的方法，所述结构具有衍射性质，所述方法包括：

使用聚焦光学器件将包括多个波长的照射辐射聚焦至所述结构上；

使用第一检测器检测已从所述结构被衍射的照射辐射的至少一部分；以及

通过附加光学器件在所述第一检测器的至少一部分上产生已从所述结构被衍射的照射辐射的不同波长的依赖于波长的空间分布，

其中所述第一检测器检测已从所述结构被衍射的照射辐射的至少非零衍射阶。

15.一种计算机程序，包括在至少一个处理器上被执行时使得所述至少一个处理器控制设备执行根据权利要求14所述的方法的指令。