[发明专利]具有基于薄膜的光导和附加反射表面的光发射设备有效

专利信息
申请号: 201880084689.7 申请日: 2018-11-02
公开(公告)号: CN111542772B 公开(公告)日: 2022-10-28
发明(设计)人: A·尼科尔;Z·科尔曼 申请(专利权)人: 弗莱克斯照明第二有限责任公司
主分类号: G02B6/26 分类号: G02B6/26;F21V7/04;F21V8/00;G02B6/00
代理公司: 北京市铭盾律师事务所 11763 代理人: 常春
地址: 美国伊*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 基于 薄膜 附加 反射 表面 发射 设备
【权利要求书】:

1.一种光发射设备,包括:

a.由薄膜形成的光导,该薄膜具有横向边缘和相对的表面,且其间的厚度不大于0.5毫米,该光导具有耦合光导的阵列,该耦合光导为从该薄膜的光导区域延伸并与该光导区域连续的该薄膜的条的形式,其中

i)耦合光导的阵列中的每个耦合光导终止于边缘;并且

ii)每个耦合光导在折叠区域中折叠以使得该耦合光导的阵列及其边缘被堆叠;

b.定位成将光发射到该耦合光导的阵列的该被堆叠的边缘中的光源;

c.该薄膜的该光导区域内的光发射区域,该光发射区域包括使在该薄膜内传播的全内反射光受阻从而使得光在光发射区域中离开该薄膜的多个光提取特征;和

d.在该耦合光导阵列和该薄膜的该光发射区域之间定义的该光导的光混合区域,该光混合区域在薄膜的该横向边缘之间包括多个线性反射表面;

其中从所述光源发出的光通过全内反射在所述耦合光导的阵列中传播到所述光混合区域,在离开所述耦合光导的阵列后所述该光混合区域中混合,从所述多个线性反射表面的一个或多个朝向所述薄膜的所述横向边缘的一个或多个反射,并在所述光发射区域中离开所述薄膜。

2.根据权利要求1所述的光发射设备,其中,所述多个线性反射表面是设置在所述光混合区域中的所述膜的表面上的光透射材料的平行条纹。

3.根据权利要求2所述的光发射设备,其中,所述多个线性反射表面在垂直于所述耦合光导阵列的阵列方向并且垂直于所述光混合区域中的所述薄膜的厚度方向的方向上具有平均长度;所述多个线性反射表面在平行于所述耦合光导阵列的阵列方向并且垂直于所述光混合区域中的所述薄膜的厚度方向的方向上具有平均宽度,并且所述平均长度除以所述平均宽度大于5。

4.根据权利要求1所述的光发射设备,其中在由所述多个线性反射表面定义的所述表面的面积中,由所述多个线性反射表面占据的所述相对表面的表面的平均面积小于40%。

5.根据权利要求1所述的光发射设备,其中,所述多个线性反射表面定位于所述薄膜的芯层上,在包括薄膜的厚度方向并且平行于所述耦合光导的阵列的阵列方向的平面中,所述多个线性反射表面的总横截面积小于在所述多个线性反射表面正下方的所述薄膜的所述芯层的总连续横截面面积的40%。

6.根据权利要求1所述的光发射设备,其中,所述多个线性反射表面沿着垂直于所述耦合光导的阵列的阵列方向的方向上沿长度方向定向。

7.根据权利要求1所述的光发射设备,其中,所述多个线性反射表面将在所述光导内传播的光的不到20%反射到所述光混合区域中的所述光导之外。

8.根据权利要求1所述的光发射设备,其中,所述耦合光导的阵列在所述耦合光导的阵列的阵列方向上具有平均节距,并且所述多个线性反射表面在所述耦合光导的阵列的阵列方向上具有平均节距,其中所述耦合光导的阵列的所述平均节距至少比所述多个线性反射表面的所述平均节距的5倍大。

9.根据权利要求1所述的光发射设备,其中,所述多个线性反射表面在垂直于所述耦合光导阵列的阵列方向并且垂直于所述光混合区域中的所述薄膜的厚度方向的方向上具有平均长度,多个线性反射表面在平行于耦合光导的阵列的阵列方向并且垂直于光混合区域中的所述薄膜的所述厚度方向的方向上具有平均宽度,并且所述平均长度除以所述平均宽度大于5。

10.根据权利要求1所述的光发射设备,其中,所述光混合区域包括折叠,使得所述光混合区域的一部分在所述薄膜的厚度方向上定位于所述光发射区域的后方。

11.根据权利要求10所述的光发射设备,其中,所述多个线性反射表面的至少一部分在所述薄膜的厚度方向上位于所述光发射区域的后方。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于弗莱克斯照明第二有限责任公司,未经弗莱克斯照明第二有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880084689.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top