[发明专利]实施了二氧化硅涂布的镀层在审

专利信息
申请号: 201880086465.X 申请日: 2018-12-25
公开(公告)号: CN111587182A 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 有光康;冈野和幸;嶋桥克将;小沼太郎;加东隆 申请(专利权)人: 株式会社太洋工作所;奥野制药工业株式会社
主分类号: B32B27/06 分类号: B32B27/06;B05D3/10;B05D7/24
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 李雪;陈万青
地址: 日本大阪府大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 实施 二氧化硅 镀层
【权利要求书】:

1.一种镀覆产品,所述镀覆产品包含:

树脂制的基材;

形成于该基材的表面的镀层;和,

形成于该镀层的表面的含有二氧化硅化合物的涂层。

2.根据权利要求1所述的镀覆产品,其中,所述涂层的厚度为0.1~20μm。

3.根据权利要求1所述的镀覆产品,其中,所述涂层的厚度为0.1~10μm。

4.根据权利要求1所述的镀覆产品,其中,所述涂层的厚度为0.1~5μm。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的镀覆产品,其中,所述涂层包含染料及颜料中的至少一者。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的镀覆产品,其中,所述涂层包含添加树脂。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的镀覆产品,所述镀覆产品用于车辆。

8.一种镀覆产品的制造方法,包含如下工序:

在树脂制的基材的表面形成镀层的工序;和,

在该镀层的表面涂布含有二氧化硅化合物的涂布剂而形成涂层的工序。

9.根据权利要求8所述的制造方法,其中,

在形成涂层的工序之前,包含对所形成的镀层进行等离子体处理、酸处理或碱处理的工序。

10.根据权利要求8或9所述的制造方法,其中,所述涂层的厚度为0.1~20μm。

11.根据权利要求8或9所述的制造方法,其中,所述涂层的厚度为0.1~10μm。

12.根据权利要求8或9所述的制造方法,其中,所述涂层的厚度为0.1~5μm。

13.根据权利要求8~12中任一项所述的制造方法,其中,所述涂布剂包含添加树脂。

14.根据权利要求8~13中任一项所述的制造方法,其中,所述产品为车辆用产品或家用电器。

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