[发明专利]显示装置和显示装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201880086700.3 申请日: 2018-10-31
公开(公告)号: CN111602468B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 佐佐木勇辅 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: H10K50/80 分类号: H10K50/80;H10K59/12
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 邸万杰;徐飞跃
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 制造 方法
【说明书】:

本发明提供一种能够实现密封膜的阻挡性的提高的显示装置。该显示装置包括由包含发光区域的像素构成的显示区域和设置在该显示区域的外侧的边框区域,具有:基板;肋,其在上述显示区域和上述边框区域相互分离地形成,且在上述显示区域中配置于上述发光区域的周围;和掩模支承部,其配置于上述边框区域中,支承用于在至少比上述肋靠上的位置形成膜的成膜用掩模,上述掩模支承部的顶部在上述基板的厚度方向上高于上述显示区域中所配置的肋的顶部。

技术领域

本发明涉及显示装置和显示装置的制造方法。

背景技术

在有机EL显示装置等的显示装置中,显示元件所包含的发光层、上部电极等通过使用了掩模的蒸镀而形成。该显示元件由密封膜密封。例如下述专利文献1公开了在形成阴极电极时使用掩模这一点。此外,下述专利文献2公开了使用具有较厚的部分和较薄的部分的掩模来形成薄膜这一点。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2015-15089号公报。

专利文献2:日本特开2017-71842号公报。

发明内容

发明要解决的技术问题

可是,在如上所述通过使用了掩模的蒸镀来形成显示元件的一部分的情况下,有时掩模会与显示元件接触。此时,如果掩模附着有杂质,则存在由于杂质被推压到显示元件上而导致构成该显示元件的膜产生损伤的情况。在这种情况下,即使在产生损伤的膜之上形成密封膜,密封膜也无法覆盖因损伤而产生凹凸的膜。因此,水分有可能从该部位侵入,造成显示元件劣化。

本发明是鉴于上述技术问题而完成的,其目的在于提供一种能够实现密封膜的阻挡性的提高的显示装置。

用于解决问题的技术手段

本发明的一个方式是一种显示装置,其包括由包含发光区域的像素构成的显示区域和设置在该显示区域的外侧的边框区域,该显示装置的特征在于,具有:基板;肋,其在上述显示区域和上述边框区域相互分离地形成,且在上述显示区域中配置于上述发光区域的周围;和掩模支承部,其配置于上述边框区域中,支承用于在至少比上述肋靠上的位置形成膜的成膜用掩模,上述掩模支承部的顶部在上述基板的厚度方向上高于上述显示区域中所配置的肋的顶部。

本发明的另一方式是一种显示装置的制造方法,该显示装置包括由包含发光区域的像素构成的显示区域和设置在该显示区域的外侧的边框区域,该显示装置的制造方法的特征在于,包括:在基板上形成肋的步骤,上述肋在上述显示区域中配置于上述发光区域的周围,且在上述显示区域和上述边框区域相互分离地形成;和使掩模支承部成膜的步骤,上述掩模支承部配置于上述边框区域中,支承用于在至少比上述肋靠上的位置形成膜的成膜用掩模,上述掩模支承部在上述基板的厚度方向上高于上述肋。

附图说明

图1是概略地表示本发明的实施方式的显示装置的图。

图2是用于对大板与单片的基板的关系进行说明的图。

图3是用于对显示装置的III-III截面进行说明的图。

图4是用于对显示装置的IV-IV截面进行说明的图。

图5是用于对显示装置的制造方法进行说明的图。

图6是用于对显示装置的制造方法进行说明的图。

图7是用于对显示装置的制造方法进行说明的图。

图8是用于对变形例中的大板与单片的基板的关系进行说明的图。

图9是用于对变形例中的显示装置的截面进行说明的图。

具体实施方式

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