[发明专利]光测定装置及光测定方法有效
申请号: | 201880087284.9 | 申请日: | 2018-10-10 |
公开(公告)号: | CN111630373B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 铃木健吾;江浦茂;井口和也 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;G01J3/443 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测定 装置 方法 | ||
1.一种分光测定装置,其中,
是对长余辉发光材料照射激发光而测定发光量子产率的分光测定装置,
具备:
光源,其输出所述激发光;
积分器,其具有供所述长余辉发光材料配置的内部空间,将来自所述内部空间的光作为检测光输出;
分光检测器,其对所述检测光进行分光而取得光谱数据;
解析部,其基于所述光谱数据对所述长余辉发光材料的所述发光量子产率进行解析;及
控制部,其控制所述激发光向所述内部空间的输入的有无的切换、及所述分光检测器中的所述检测光的曝光时间,
所述控制部以在利用所述分光检测器开始取得所述光谱数据的第1期间维持向所述内部空间输入所述激发光且在继所述第1期间之后的第2期间停止向所述内部空间输入所述激发光的方式控制所述光源,并以所述第2期间内的所述检测光的曝光时间长于所述第1期间内的所述检测光的曝光时间的方式控制所述分光检测器,
所述解析部通过基于所述第1期间内的所述检测光的曝光时间而将所述第1期间中的所述长余辉发光材料的发光的强度标准化并且基于所述第2期间内的所述检测光的曝光时间而将所述第2期间中的所述长余辉发光材料的发光的强度标准化,从而对所述长余辉发光材料的发光强度的时间曲线进行解析。
2.如权利要求1所述的分光测定装置,其中,
所述控制部以自所述第2期间的开始经过一定时间后所述检测光的曝光时间变得更长的方式控制所述分光检测器。
3.如权利要求1或2所述的分光测定装置,其中,
所述分光检测器基于所述光谱数据取得所述第1期间内的所述激发光的强度峰值及所述长余辉发光材料的发光的强度峰值,
所述控制部根据所述激发光的强度峰值相对于所述发光的强度峰值的比率与所述第1期间内的所述检测光的曝光时间的积,决定所述第2期间的开始时的所述检测光的曝光时间。
4.如权利要求1~3中任一项所述的分光测定装置,其中,
所述积分器为积分半球。
5.一种分光测定方法,其中,
是对长余辉发光材料照射激发光而测定发光量子产率的分光测定方法,
具备:
光谱数据取得步骤,其将自具有供所述长余辉发光材料配置的内部空间的积分器输出的检测光利用分光检测器进行分光而取得光谱数据;及
发光量子产率解析步骤,其基于所述光谱数据对所述长余辉发光材料的所述发光量子产率进行解析,
在所述光谱数据取得步骤中,
在利用所述分光检测器开始取得所述光谱数据的第1期间维持向所述内部空间输入所述激发光,且在继所述第1期间之后的第2期间停止向所述内部空间输入所述激发光,
使所述分光检测器中的所述第2期间内的所述检测光的曝光时间长于所述第1期间内的所述检测光的曝光时间,
在所述发光量子产率解析步骤中,通过基于所述第1期间内的所述检测光的曝光时间而将所述第1期间中的所述长余辉发光材料的发光的强度标准化并且基于所述第2期间内的所述检测光的曝光时间而将所述第2期间中的所述长余辉发光材料的发光的强度标准化,从而对所述长余辉发光材料的发光强度的时间曲线进行解析。
6.如权利要求5所述的分光测定方法,其中,
在所述光谱数据取得步骤中,自所述第2期间的开始经过一定时间后使所述分光检测器中的所述检测光的曝光时间更长。
7.如权利要求5或6所述的分光测定方法,其中,
还具备:峰取得步骤,其基于所述光谱数据而取得所述第1期间内的所述激发光的强度峰值及所述长余辉发光材料的发光的强度峰值,
在所述光谱数据取得步骤中,根据所述激发光的强度峰值相对于所述发光的强度峰值的比率与所述第1期间内的所述检测光的曝光时间的积,决定所述第2期间的开始时的所述检测光的曝光时间。
8.如权利要求5~7中任一项所述的分光测定方法,其中,
使用积分半球作为所述积分器。
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