[发明专利]旋转式流体流动装置有效

专利信息
申请号: 201880089109.3 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN111771061B 公开(公告)日: 2023-02-10
发明(设计)人: 阿里真德罗·决恩;迈克·塞雷达-莫尔;埃里克·法瑞尔 申请(专利权)人: 益班修科技股份有限公司
主分类号: F04C29/04 分类号: F04C29/04;F04C13/00;F04C15/00;F04C25/00;F04C29/00;F04C3/08
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘佳斐
地址: 加拿大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 旋转 流体 流动 装置
【权利要求书】:

1.一种旋转式流体流动装置(20),其包括:

壳体(55),其包括凹进截头球形内部壳体表面(114);

第一转子(76),其包括邻近于所述内部壳体表面(114)的凸出截头球形第一转子外表面(62)、限定至少一个沟谷(82)的至少一个凸瓣(78)、所述第一转子外表面(62)的径向中心处的第一转子中心(77);

第一转子流体静压轴承(134),其形成于所述第一转子外表面(62)上;

所述第一转子流体静压轴承(134)包括:穿过所述第一转子外表面(62)的至少一个第一转子流体端口(108)、限定所述第一转子流体端口(108)周围的轴承凹穴(208)的表面、所述轴承凹穴(208)周围的平台(206);

所述平台(206)相对于所述第一转子(76)的所述中心(77)从所述轴承凹穴(208)径向朝外突出;以及

所述平台(206)紧邻所述内部壳体表面(114),从而与之形成流体密封。

2.根据权利要求1所述的旋转式流体流动装置(20),其进一步包括:

所述第一转子流体静压轴承(134)由每一凸瓣(78)的所述第一转子外表面(62)上的至少一个第一转子平台(206)的阵列(593)形成;以及

其中所述阵列(593)在所述第一转子(76)的每一凸瓣(78)上大体上相同。

3.根据权利要求2所述的旋转式流体流动装置(20),其中所述第一转子流体静压轴承(134)具有多维阵列(593)。

4.根据权利要求1所述的旋转式流体流动装置(20),其中所述流体静压轴承(134)包括:

轴承流体源,其处于轴承流体供应压力下,所述轴承流体源与所述第一转子流体端口(108)成流体连通;

工作流体源,其具有穿过所述壳体(55)到由所述第一转子的所述沟谷(82)部分限定的腔室(144)的流体管道(186),随着所述第一转子(76)相对于所述壳体(55)旋转,所述工作流体将在所述腔室(144)中被压缩到工作流体压力;

其中所述轴承流体供应压力超出所述工作流体压力。

5.根据权利要求1所述的旋转式流体流动装置(20),其进一步包括:

第二转子(28),其包括邻近于所述内部壳体表面(114)的凸出截头球形第二转子外表面(36),形成至少一个沟谷(82)的至少一个凸瓣(78),所述第二转子的所述沟谷(82)定位在所述第一转子(76)的所述凸瓣(78)周围,第二转子中心(77)在所述第二转子外表面(36)的所述径向中心处;

第二转子流体静压轴承(136),其形成于所述第二转子外表面(36)上;

所述第二转子流体静压轴承(136)包括:穿过所述第二转子外表面(36)的至少一个第二转子流体端口(108)、限定所述第二转子流体端口(108)周围的第二轴承凹穴(208)的表面、所述第二轴承凹穴(208)周围的平台(206);

所述平台(206)相对于所述第二转子(28)的所述中心(77)从所述第二轴承凹穴(208)径向朝外突出;以及

所述平台(206)紧邻所述内部壳体表面(114)。

6.根据权利要求1所述的旋转式流体流动装置(20),其中至少所述第一转子流体静压轴承(134)从所述第一转子(76)的所述沟谷(82)径向偏移。

7.根据权利要求1所述的旋转式流体流动装置(20),其中所述第一转子流体静压轴承(134)被配置成向所述沟谷(82)排出。

8.根据权利要求5所述的旋转式流体流动装置(20),其进一步包括:

第一轴杆(64),其从所述第一转子(76)延伸,所述第一轴杆(64)与所述第一转子(76)的所述凸瓣(78)轴向相对;

流体管道(216),其与所述至少一个第一转子流体端口(108)成流体连通;以及

所述流体管道(216)大体上沿着所述第一轴杆(64)轴向延伸。

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