[发明专利]单片体形成装置及单片体形成方法在审
申请号: | 201880090381.3 | 申请日: | 2018-12-21 |
公开(公告)号: | CN111788659A | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 杉下芳昭 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | H01L21/301 | 分类号: | H01L21/301;H01L21/683 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 张晶;敖莲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单片 体形 装置 成方 | ||
1.一种单片体形成装置,其使被粘物单片化而形成单片体,其特征在于,具备:
片粘贴单元,其将粘接片粘贴于所述被粘物,所述粘接片添加有通过赋予规定的能量而膨胀的膨胀性微粒;
改性部形成单元,其在所述被粘物上形成改性部,并在所述被粘物上形成被该改性部围绕、或者被该改性部和所述被粘物的外缘围绕的单片化预定区域;以及
单片化单元,其向所述被粘物赋予外力,以所述改性部为起点在该被粘物上形成裂缝,并使该被粘物单片化而形成所述单片体,
所述单片化单元对所述粘接片局部地赋予所述能量,使被赋予该能量的粘接片局部中所添加的所述膨胀性微粒膨胀,并使粘贴于该粘接片局部的所述单片化预定区域位移而形成所述单片体。
2.一种单片体形成装置,其使被粘物单片化而形成单片体,其特征在于,
预先在所述被粘物上形成有改性部,并预先形成有被该改性部围绕、或者被该改性部和所述被粘物的外缘围绕的单片化预定区域,
所述单片体形成装置具备:
片粘贴单元,其将粘接片粘贴于所述被粘物,所述粘接片添加有通过赋予规定的能量而膨胀的膨胀性微粒;以及
单片化单元,其向所述被粘物赋予外力,以所述改性部为起点在该被粘物上形成裂缝,并使该被粘物单片化而形成所述单片体,
所述单片化单元对所述粘接片局部地赋予所述能量,使被赋予该能量的粘接片局部中所添加的所述膨胀性微粒膨胀,并使粘贴于该粘接片局部的所述单片化预定区域位移而形成所述单片体。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的单片体形成装置,其特征在于,
具备使所述被粘物和单片化单元相对移动的移动单元。
4.根据权利要求3所述的单片体形成装置,其特征在于,
所述改性部包括:沿着第一方向的第一改性部、和沿着与该第一方向交叉的第二方向的第二改性部,
所述单片化单元在赋予了所述能量的位置上形成该能量的赋予区域沿着规定的方向延伸的线状赋予区域,
所述移动单元使所述线状赋予区域以与所述第一方向平行的方式移动,而且使所述线状赋予区域以与所述第二方向平行的方式移动。
5.根据权利要求1至权利要求4中任一项所述的单片体形成装置,其特征在于,
所述膨胀性微粒具有以第一能量进行膨胀的第一膨胀性微粒、和以第二能量进行膨胀的第二膨胀性微粒,
所述单片化单元具备:赋予所述第一能量的第一单片化单元、和赋予所述第二能量的第二单片化单元。
6.根据权利要求1至权利要求5中任一项所述的单片体形成装置,其特征在于,
具备位移抑制单元,该位移抑制单元抑制通过所述单片化单元进行位移前的被粘物局部发生位移。
7.一种单片体形成方法,其使被粘物单片化而形成单片体,其特征在于,实施:
片粘贴工序,在所述被粘物上粘贴粘接片,该粘接片添加有通过赋予规定的能量而膨胀的膨胀性微粒;
改性部形成工序,在所述被粘物上形成改性部,并在所述被粘物上形成被该改性部围绕、或者被该改性部和所述被粘物的外缘围绕的单片化预定区域;以及
单片化工序,向所述被粘物赋予外力,以所述改性部为起点在该被粘物上形成裂缝,并使该被粘物单片化而形成所述单片体,
在所述单片化工序中,对所述粘接片局部地赋予所述能量,使被赋予该能量的粘接片局部中所添加的所述膨胀性微粒膨胀,并使粘贴于该粘接片局部的所述单片化预定区域位移而形成所述单片体。
8.一种单片体形成方法,其使被粘物单片化而形成单片体,其特征在于,
预先在所述被粘物上形成有改性部,并预先形成有被该改性部围绕、或者被该改性部和所述被粘物的外缘围绕的单片化预定区域,
所述单片体形成方法实施:
片粘贴工序,在所述被粘物上粘贴粘接片,该粘接片添加有通过赋予规定的能量而膨胀的膨胀性微粒;以及
单片化工序,向所述被粘物赋予外力,以所述改性部为起点在该被粘物上形成裂缝,并使该被粘物单片化而形成所述单片体,
在所述单片化工序中,对所述粘接片局部地赋予所述能量,使被赋予该能量的粘接片局部中所添加的所述膨胀性微粒膨胀,并使粘贴于该粘接片局部的所述单片化预定区域位移而形成所述单片体。
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