[发明专利]带电粒子束装置有效
申请号: | 201880091722.9 | 申请日: | 2018-03-29 |
公开(公告)号: | CN111971776B | 公开(公告)日: | 2023-07-28 |
发明(设计)人: | 野间口恒典;本村俊一;川崎忠宽;加藤丈晴;吉田龙视 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术;一般财团法人日本精细陶瓷中心 |
主分类号: | H01J37/09 | 分类号: | H01J37/09 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 曾贤伟;范胜杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带电 粒子束 装置 | ||
作为校正带电粒子束用的电磁透镜所具有的正的球面像差的装置,已知组合圆孔电极和圆环电极而得的球面像差校正装置。在该球面像差校正装置中,在向圆孔电极和圆环电极之间施加了电压时,由于圆孔电极产生的凸透镜效果,带电粒子束装置的焦点发生变化。因此,在具备产生带电粒子束的带电粒子束源(101)、具有圆环形状的带电粒子束光圈(120)、向带电粒子束光圈施加电压的带电粒子束光圈电源(108)的带电粒子束装置中,带电粒子束光圈电源向带电粒子束光圈施加极性与带电粒子束的电荷相反的电压。
技术领域
本发明涉及向试样照射带电粒子束的带电粒子束装置。
背景技术
扫描型电子显微镜(SEM:Scanning Electron Microscope)、聚焦离子束系统(FIB:Focused Ion Beam System)这样的带电粒子束装置使带电粒子束聚束到试样,来进行纳米级的观察、分析、加工。在要求纳米级的观察、分析、加工的半导体领域、材料领域、生物技术领域中广泛地使用了这些带电粒子束装置。另外,以推进了精细化的半导体领域为代表,在各种领域中,要求进一步的图像分辨率的提高、加工精度的提高。
在专利文献1中,公开了一种能够通过以下的办法而以简单的构造实现的球面像差校正器,其具备入射板和出射板,在其任意一方上形成圆形开孔,在另一方上形成圆环开孔,通过向入射板和出射板之间施加电压,而具有通过形成在圆环开孔的电场消除正的球面像差的发散。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2016/174891号
发明内容
发明要解决的课题
专利文献1所公开的球面像差校正器通过向圆孔电极(是指设置有圆形开孔的板)和圆环电极(是指设置有圆环开孔的板)之间施加电压,而在圆孔电极产生凸透镜效应,由此带电粒子束的焦点发生变化。另外,为了使圆孔电极和圆环电极成为不同的电位,必须在其之间经由绝缘片配置圆孔电极和圆环电极。如果该绝缘材料充电,则无法向圆孔电极和圆环电极之间施加希望的电压,像差校正性能也有可能劣化。
用于解决课题的方法
在一个实施方式的带电粒子束装置中,具备:带电粒子束源,其产生带电粒子束;带电粒子束光圈,其具有圆环形状;带电粒子束光圈电源,其向带电粒子束光圈施加电压,其中,带电粒子束光圈电源向带电粒子束光圈施加极性与带电粒子束的电荷相反的电压。
根据本说明书的记载和附图能够了解其他课题和新的特征。
发明效果
能够在抑制在向带电粒子束光圈施加电压时产生的焦点变化的同时,得到球面像差校正效果。
附图说明
图1是带电粒子束装置的概要图。
图2A是表示带电粒子束光圈部的结构的概要图。
图2B是带电粒子束光圈的截面图。
图2C是带电粒子束光圈的截面图。
图2D是带电粒子束光圈的截面图。
图3是表示带电粒子束光圈部的结构的概要图。
图4是表示带电粒子束光圈的支持构造的概要图。
图5是表示带电粒子束光圈的支持构造的概要图。
图6是表示带电粒子束光圈的支持构造的概要图。
图7是表示带电粒子束光圈的支持构造的概要图。
图8是GUI画面的一个例子。
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