[发明专利]等离子体处理机有效
申请号: | 201880092996.X | 申请日: | 2018-05-23 |
公开(公告)号: | CN112056009B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 神藤高广 | 申请(专利权)人: | 株式会社富士 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨青;安翔 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 处理机 | ||
1.一种等离子体处理机,进行利用等离子体化后的气体而进行的处理,所述等离子体处理机具备:
等离子体头,在被施加了电压的电极之间使气体等离子体化,从喷嘴放出该等离子体化后的气体;
气体供给装置,向等离子体头供给包含要进行等离子体化的气体在内的气体;
压力检测器,检测从气体供给装置供给的气体的压力;及
控制装置,负责该等离子体处理机的控制,
所述控制装置构成为,在减压异常和增压异常都未发生的情况下,开始对所述等离子体头的所述电极施加预定的电压而使所述等离子体头被加热,基于在向所述电极施加了电压之后由所述压力检测器检测到的气体的压力即施加电压后气体压力是否随着被加热的所述等离子体头的温度上升而相对于基准压力上升来识别所述电极间的放电状态是否适当,当识别为所述电极间的放电状态适当时容许所述等离子体处理机开始进行等离子体处理。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理机,其中,
所述控制装置构成为以所述施加电压后气体压力达到了设定压力为条件而容许所述等离子体处理机开始进行等离子体处理。
3.根据权利要求1所述的等离子体处理机,其中,
所述控制装置构成为,基于从开始向所述电极施加电压起经过了设定时间后的所述施加电压后气体压力,来容许所述等离子体处理机开始进行等离子体处理。
4.根据权利要求2所述的等离子体处理机,其中,
所述控制装置构成为,基于从开始向所述电极施加电压起经过了设定时间后的所述施加电压后气体压力,来容许所述等离子体处理机开始进行等离子体处理。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的等离子体处理机,其中,
所述控制装置构成为,还基于在向所述电极施加电压之前由所述压力检测器检测到的气体的压力即施加电压前气体压力,来开始向所述电极施加电压。
6.根据权利要求5所述的等离子体处理机,其中,
所述控制装置构成为以所述施加电压后气体压力与所述施加电压前气体压力之差达到了设定差为条件来容许所述等离子体处理机开始进行等离子体处理。
7.根据权利要求5所述的等离子体处理机,其中,
所述控制装置构成为,基于所述施加电压前气体压力,来测知从所述气体供给装置供给的气体的至所述等离子体头为止的路径和包含所述喷嘴的所述等离子体头内的气体的路径中的至少一个路径的异常。
8.根据权利要求6所述的等离子体处理机,其中,
所述控制装置构成为,基于所述施加电压前气体压力,来测知从所述气体供给装置供给的气体的至所述等离子体头为止的路径和包含所述喷嘴的所述等离子体头内的气体的路径中的至少一个路径的异常。
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