[发明专利]用于从基板升离掩模的设备、基板载体、真空处理系统和操作电永磁铁组件的方法

权利要求书

1.一种用于从基板升离安装在掩模框架处的掩模的设备，包括：

电永磁铁组件；和

磁铁布置，附接于所述掩模。

2.如权利要求1所述的设备，所述电永磁铁组件包括：

第一磁铁单元，包括硬磁材料；

第二磁铁单元，包括软磁材料；和

电磁单元，经配置以调整所述第二磁铁单元的磁化。

3.如权利要求1至2中任一项所述的设备，其中所述磁铁布置是永久磁铁。

4.一种用于相对于基板来移动安装在掩模框架处的掩模的设备，包括：

电永磁铁元件，被包括于电永磁铁组件之中；和

磁铁布置，附接于所述掩模。

5.如权利要求4所述的设备，所述电永磁铁组件经配置以提供吸引力至附接于所述掩模的所述磁铁布置。

6.如权利要求4至5中任一项所述的设备，所述电永磁铁组件经配置以提供斥力至附接于所述掩模的所述磁铁布置。

7.一种基板载体，包括：

根据权利要求1至6中任一项的设备。

8.如权利要求7所述的基板载体，进一步包括基板接收表面，所述电永磁铁组件位于所述基板接收表面的第一侧上，并且所述磁铁布置位于所述基板接收表面的第二侧上。

9.一种基板载体，包括：

基板接收表面；

基板固定布置；和

电永磁铁组件，经配置以从所述基板升离掩模。

10.如权利要求9所述的基板载体，其中所述电永磁铁组件包括：

掩模吸引布置；和

掩模排斥布置。

11.一种用于显示器制造的掩模布置，包括：

掩模框架，具有孔；

掩模，具有复数个开口，所述掩模被所述掩模框架支撑；和

磁铁布置，在所述孔的区域中定位在所述掩模上，所述磁铁布置经配置以与电永磁铁组件相互作用。

12.一种真空处理系统，包括：

根据权利要求7至10中任一项的基板载体。

13.一种用于操作在具有电永磁铁组件的系统中的所述电永磁铁组件的方法，包括：

提供磁铁布置和掩模，所述掩模安装在掩模框架处，所述磁铁布置附接于所述掩模；和

将所述电永磁铁组件从非磁化状态转换至磁化状态。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述磁铁布置是永久磁铁。

15.如权利要求13至14中任一项所述的方法，进一步包括：

在基板表面上方提供掩模载体，所述基板被基板载体支撑；和

在转换所述电永磁铁组件之前，相对于所述基板载体来对准所述掩模载体。