[发明专利]试样处理设备以及装置在审
申请号: | 201880095660.9 | 申请日: | 2018-09-27 |
公开(公告)号: | CN112424610A | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 长冈嘉浩;佐藤航;山本周平;中泽太朗;藤冈满;奥野惠佳 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | G01N35/00 | 分类号: | G01N35/00;B81B3/00;G01N37/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴秋明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 试样 处理 设备 以及 装置 | ||
1.一种试样处理设备,其特征在于,具备:
试剂保存部;
处理部,具有在上表面侧液体流动的上表面流路和在下表面侧液体流动的下表面流路,所述上表面流路的两端与不同的所述下表面流路连通;以及
弹性膜,将所述处理部的下表面侧密封,
所述试剂保存部包含在上部构件与所述处理部的上表面侧之间保存试剂的保存空间和在所述保存空间的周围以及所述上表面流路的周围将所述上部构件和所述处理部的上表面侧接合的接合部,
所述接合部包含所述上表面流路与所述保存空间之间的至少一部分与其他部分相比接合强度弱的低强度接合部。
2.根据权利要求1所述的试样处理设备,其特征在于,
所述上部构件包含密封膜。
3.根据权利要求1所述的试样处理设备,其特征在于,
所述低强度接合部包含部分的非接合区域。
4.根据权利要求1所述的试样处理设备,其特征在于,
在所述上部构件与所述处理部的上表面侧之间具有保护所述保存空间的保护构造。
5.根据权利要求1所述的试样处理设备,其特征在于,
所述试样处理设备还具备将所述处理部的上表面侧密封的密封构件,
所述保存空间形成在所述上部构件与所述密封构件之间,
所述接合部将所述上部构件和所述密封构件接合,
所述密封构件在所述上表面流路的上部具备一部分被除去的除去部。
6.一种试样处理设备,其特征在于,具备:
试剂保存部;
处理部,具有在上表面侧液体流动的上表面流路和在下表面侧液体流动的下表面流路,所述上表面流路的两端与不同的所述下表面流路连通;以及
弹性膜,将所述处理部的下表面侧密封,
所述试剂保存部包含上部构件、下部构件、在两个构件之间保存试剂的保存空间、以及在所述保存空间的周围将两个构件接合的接合部,
所述下部构件在所述上表面流路的上部具备一部分被除去的除去部,
所述接合部包含所述除去部与所述保存空间之间的至少一部分与其他部分相比接合强度弱的低强度接合部。
7.根据权利要求6所述的试样处理设备,其特征在于,
所述低强度接合部包含部分的非接合区域。
8.根据权利要求6所述的试样处理设备,其特征在于,
在所述上部构件与所述下部构件之间具有保护所述保存空间的保护构造。
9.根据权利要求6所述的试样处理设备,其特征在于,
具备将所述处理部的上表面侧密封的密封构件,
在所述密封构件中,与所述下部构件的除去部对应的位置被除去。
10.根据权利要求6所述的试样处理设备,其特征在于,
形成所述保存空间的所述上部构件在上表面侧为凸形状,所述下部构件在下表面侧为凸形状。
11.一种试样处理装置,其特征在于,具备:
试剂保存部;
处理部,具有在上表面侧液体流动的上表面流路和在下表面侧液体流动的下表面流路,所述上表面流路的两端与不同的所述下表面流路连通;
驱动部,对空气进行控制;
弹性膜,配置在所述处理部与所述驱动部之间;以及
空气压力控制部,对所述弹性膜向所述处理部密接还是向所述驱动部密接进行切换,
所述试剂保存部包含上部构件、下部构件、在两个构件之间保存试剂的保存空间、以及在所述保存空间的周围将所述两个构件接合的接合部,
所述下部构件的至少一部分与所述处理部的上表面侧接合,所述下部构件在所述上表面流路的上部具备一部分被除去的除去部,
所述接合部包含所述除去部与所述保存空间之间的至少一部分与其他部分相比接合强度弱的低强度接合部。
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