[发明专利]硬质被膜和硬质被膜被覆构件

权利要求书

1.硬质被膜(30；50；60；70；80；90)，其是以被覆母材(12)的表面的方式附着于该表面的硬质被膜(30；50；60；70；80；90)，其特征在于，

所述硬质被膜(30；50；60；70；80；90)以将单一组成层(32；34；36)与两种纳米层交替层(38、40；38、42；40、42)共三种层交替地层叠而总膜厚(Ttotal)成为0.5～20μm的范围内的方式构成，该单一组成层由A组成、B组成和C组成中的任一种组成构成，该两种纳米层交替层以所述A组成和所述B组成、所述A组成和所述C组成、所述B组成和所述C组成这三种组合中的任两种组合将各组成的纳米层(32n、34n、36n)交替地层叠而成，

所述A组成是组成式为Al_aCr_bSi_cα_d的氮化物，其中a、b、c、d分别以原子比计为0.30≤a≤0.80、0.15≤b≤0.65、0≤c≤0.45、0≤d≤0.10且a+b+c+d＝1，Si和α为任意添加成分，任意添加成分α为选自B、C、Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一种以上的元素，

所述B组成是组成式为Cr_eB_fSi_gβ_h的氮化物，其中e、f、g、h分别以原子比计为0.40≤e≤0.95、0.05≤f≤0.30、0≤g≤0.45、0≤h≤0.10且e+f+g+h＝1，Si和β为任意添加成分，任意添加成分β为选自C、Al、Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一种以上的元素，

所述C组成是组成式为Al_iCr_j(SiC)_kγ_l的氮化物，其中i、j、k、l分别以原子比计为0.20≤i≤0.85、0.10≤j≤0.50、0.03≤k≤0.45、0≤l≤0.10且i+j+k+l＝1，任意添加成分γ为选自B、Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一种以上的元素，

所述单一组成层(32；34；36)的膜厚在0.5～1000nm的范围内，

构成所述两种纳米层交替层(38、40；38、42；40、42)的所述纳米层(32n、34n、36n)的各膜厚均在0.5～500nm的范围内，所述两种纳米层交替层(38、40；38、42；40、42)的各膜厚均在1～1000nm的范围内。

2.权利要求1所述的硬质被膜(30；50；60；70；80；90)，其特征在于，所述单一组成层(32；34；36)的膜厚T1与所述两种纳米层交替层(38、40；38、42；40、42)的各膜厚T2、T3的比T1/T2、T1/T3均在0.2～10的范围内。

3.权利要求1或2所述的硬质被膜(80)，其特征在于，交替地层叠的所述单一组成层(32；34；36)和所述两种纳米层交替层(38、40；38、42；40、42)的最下部的层直接设于所述母材(12)的表面。

4.权利要求1或2所述的硬质被膜(30；50；60；70；90)，其特征在于，所述硬质被膜(30；50；60；70；90)在其与所述母材(12)的边界具备界面层，

所述界面层由以下共三种层中的任一种层构成：由所述A组成、所述B组成和所述C组成中的任一种组成构成的单一组成层；将由所述A组成、所述B组成和所述C组成中的任两种组成构成、且各自膜厚在0.5～500nm的范围内的两种纳米层交替地层叠而成的纳米层交替层；和包含B、Al、Ti、Y、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr和W中的一种以上的元素的金属的氮化物、碳氮化物或碳化物的层；

所述界面层的膜厚在5～1000nm的范围内。