[发明专利]硬质被膜和硬质被膜被覆构件

权利要求书

1.硬质被膜，其是以被覆母材的表面的方式附着于该表面的硬质被膜，其特征在于，

所述硬质被膜以将单一组成层与两种纳米层交替层共三种层交替地层叠而总膜厚成为0.5～20μm的范围内的方式构成，该单一组成层由A组成、B组成和C组成中的任一种组成构成，该两种纳米层交替层以所述A组成和所述B组成、所述A组成和所述C组成、所述B组成和所述C组成这三种组合中的任两种组合将各组成的纳米层交替地层叠而成，

所述A组成是组成式为Al_aCr_bα_c的氮化物，其中a、b、c分别以原子比计为0.30≤a≤0.85、0.15≤b≤0.70、0≤c≤0.10且a+b+c＝1，任意添加成分α为选自B、C、Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一种以上的元素，

所述B组成是组成式为Al_dTi_eCr_fβ_g的氮化物，其中d、e、f、g分别以原子比计为0.20≤d≤0.85、0.05≤e≤0.50、0.05≤f≤0.45、0≤g≤0.10且d+e+f+g＝1，任意添加成分β为选自B、C、Si、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一种以上的元素，

所述C组成是组成式为Al_hCr_i(SiC)_jγ_k的氮化物，其中h、i、j、k分别以原子比计为0.20≤h≤0.85、0.10≤i≤0.50、0.03≤j≤0.45、0≤k≤0.10且h+i+j+k＝1，任意添加成分γ为选自B、C、Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一种以上的元素，

所述单一组成层的膜厚在0.5～1000nm的范围内，

构成所述两种纳米层交替层的所述纳米层的各膜厚均在0.5～500nm的范围内，所述两种纳米层交替层的各膜厚均在1～1000nm的范围内。

2.权利要求1所述的硬质被膜，其特征在于，所述单一组成层的膜厚T1与所述两种纳米层交替层的各膜厚T2、T3的比T1/T2、T1/T3均在0.2～10的范围内。

3.权利要求1或2所述的硬质被膜，其特征在于，交替地层叠的所述单一组成层和所述两种纳米层交替层的最下部的层直接设于所述母材的表面。

4.权利要求1或2所述的硬质被膜，其特征在于，所述硬质被膜在其与所述母材之间具备界面层，

所述界面层由以下共三种层中的任一种层构成：由所述A组成、所述B组成和所述C组成中的任一种组成构成的单一组成层；将由所述A组成、所述B组成和所述C组成中的任两种组成构成、且各自膜厚在0.5～500nm的范围内的两种纳米层交替地层叠而成的纳米层交替层；和包含B、Al、Ti、Y、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr和W中的一种以上的元素的金属的氮化物、碳氮化物或碳化物的层；

所述界面层的膜厚在5～1000nm的范围内。

5.权利要求1～4的任一项所述的硬质被膜，其特征在于，所述硬质被膜在最表面具有表面层，

所述表面层由单一组成层或纳米层交替层构成，该单一组成层由所述A组成、所述B组成和所述C组成中的任一种组成构成，该纳米层交替层将由所述A组成、所述B组成和所述C组成中的任两种组成构成、且各自膜厚在0.5～500nm的范围内的两种纳米层交替地层叠而成，

所述表面层的膜厚在0.5～1000nm的范围内。

6.硬质被膜被覆构件，其是母材的表面的一部分或全部被硬质被膜被覆着的硬质被膜被覆构件，其特征在于，所述硬质被膜为权利要求1～5的任一项所述的硬质被膜。

7.权利要求6所述的硬质被膜被覆构件，其特征在于，所述硬质被膜被覆构件为被动绕轴心旋转并且切削刃伴随旋转而断续地进行切削加工的断续切削工具。