[发明专利]硬质被膜和硬质被膜被覆构件有效

专利信息
申请号: 201880096118.5 申请日: 2018-08-01
公开(公告)号: CN112888807B 公开(公告)日: 2023-08-04
发明(设计)人: 王媺;杉田博昭 申请(专利权)人: OSG株式会社
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;B23B27/14;C23C28/04
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 陈冠钦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 硬质 被覆 构件
【权利要求书】:

1.硬质被膜(30;40;50;60;70;80),其是以被覆母材(12)的表面的方式附着于该表面的硬质被膜(30;40;50;60;70;80),其特征在于,

所述硬质被膜(30;40;50;60;70;80)以将两种单一组成层(32、34;32、52)和纳米层交替层(36;54)共三种层交替地层叠而总膜厚(Ttotal)成为0.5~20μm的范围内的方式构成,该两种单一组成层由A组成、B组成和C组成中的任两种组成构成,该纳米层交替层将由所述A组成、所述B组成和所述C组成中的任两种组成构成的两种纳米层(32n、34n;32n、52n)交替地层叠而成,

所述A组成是组成式为AlaCrbαc的氮化物,其中a、b、c分别以原子比计为0.30≤a≤0.85、0.15≤b≤0.70、0≤c≤0.10且a+b+c=1,任意添加成分α为选自B、C、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一种以上的元素,

所述B组成是组成式为AldCreSifβg的氮化物,其中d、e、f、g分别以原子比计为0.20≤d≤0.85、0.10≤e≤0.50、0.03≤f≤0.45、0≤g≤0.10且d+e+f+g=1,任意添加成分β为选自B、C、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一种以上的元素,

所述C组成是组成式为AlhCri(SiC)jγk的氮化物,其中h、i、j、k分别以原子比计为0.20≤h≤0.85、0.10≤i≤0.50、0.03≤j≤0.45、0≤k≤0.10且h+i+j+k=1,任意添加成分γ为选自B、C、Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的一种以上的元素,

所述两种单一组成层(32、34;32、52)的膜厚(T1、T2)均在0.5~1000nm的范围内,

构成所述纳米层交替层(36;54)的所述两种纳米层(32n、34n;32n、52n)的各膜厚均在0.5~500nm的范围内,所述纳米层交替层(36;54)的膜厚(T3)在1~1000nm的范围内。

2.权利要求1所述的硬质被膜(30;40;50;60;70;80),其特征在于,所述两种单一组成层(32、34;32、52)的各膜厚T1、T2与所述纳米层交替层(36;54)的膜厚T3的比T1/T3、T2/T3均在0.2~10的范围内。

3.权利要求1或2所述的硬质被膜(70),其特征在于,交替地层叠的所述两种单一组成层(32、34)和所述纳米层交替层(36)的最下部的层直接设于所述母材(12)的表面。

4.权利要求1或2所述的硬质被膜(30;40;50;60;80),其特征在于,所述硬质被膜(30;40;50;60;80)在其与所述母材(12)之间具备界面层(82),

所述界面层(82)由以下共三种层中的任一种层构成:由所述A组成、所述B组成和所述C组成中的任一种组成构成的单一组成层;将由所述A组成、所述B组成和所述C组成中的任两种组成构成、且各自膜厚在0.5~500nm的范围内的两种纳米层交替地层叠而成的纳米层交替层;和包含B、Al、Ti、Y、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr和W中的一种以上的元素的金属的氮化物、碳氮化物或碳化物的层;

所述界面层的膜厚在10~1000nm的范围内。

5.权利要求1或2所述的硬质被膜(80),其特征在于,所述硬质被膜(80)在最表面具有表面层(82),

所述表面层(82)由单一组成层或纳米层交替层构成,该单一组成层由所述A组成、所述B组成和所述C组成中的任一种组成构成,该纳米层交替层将由所述A组成、所述B组成和所述C组成中的任两种组成构成、且各自膜厚在0.5~500nm的范围内的两种纳米层交替地层叠而成,

所述表面层(82)的膜厚在5~1000nm的范围内。

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