[发明专利]质量分析装置在审

专利信息
申请号: 201880099060.X 申请日: 2018-12-19
公开(公告)号: CN112955998A 公开(公告)日: 2021-06-11
发明(设计)人: 西口克 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: H01J49/42 分类号: H01J49/42;H01J49/06
代理公司: 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 代理人: 杨楷;毛立群
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 质量 分析 装置
【权利要求书】:

1.一种质量分析装置,具有输送作为分析对象的离子的离子输送光学系统,其特征在于,

所述离子输送光学系统包含:

N根杆电极,具有作为整体被配置为在离子的输送方向上延伸的6以上的偶数根;

电压生成部,对所述N根杆电极分别施加规定的电压,

将该4根杆电极中的至少2根杆电极以随着在离子的输送方向上行进而靠近所述N极的配置或所述四极的配置的中心轴的方式相对于该中心轴倾斜配设,从而使所述N根杆电极在离子的入射侧为N极的配置、且在离子的射出侧该N根杆电极中的4根杆电极成为四极的配置,

所述电压生成部相对于所述N根杆电极,能够对在离子光轴的周围相邻的杆电极彼此施加相位相互反转的高频电压,并对在离子的射出侧成为四极配置的所述4根杆电极施加第1直流电压,对所述N根杆电极中的所述4根杆电极以外的(N-4)根杆电极施加与所述第1直流电压不同的第2直流电压。

2.一种质量分析装置,具有输送作为分析对象的离子的离子输送光学系统,其特征在于,

所述离子输送光学系统包含:

N根杆电极,具有作为整体被配置为在离子的输送方向上延伸的6以上的偶数根;

电压生成部,对所述N根杆电极分别施加规定的电压,

将该4根杆电极中的至少2根杆电极的形状设为,在离子的输送方向上延伸的中途的至少一部分以靠近所述N极的配置或所述四极的配置的中心轴的方式弯曲,从而使所述N根杆电极在离子的入射侧为N极的配置、且在离子的射出侧该N根杆电极中的4根杆电极成为四极的配置,

所述电压生成部相对于所述N根杆电极,能够对在离子光轴的周围相邻的杆电极彼此施加相位相互反转的高频电压,并对在离子的射出侧成为四极配置的所述4根杆电极施加第1直流电压,对所述N根杆电极中的该4根杆电极以外的(N-4)根杆电极施加与所述第1直流电压不同的第2直流电压。

3.如权利要求1所述的质量分析装置,其特征在于,

所述电压生成部将比所述第1直流电压大的电压值即所述第2直流电压施加至所述(N-4)根杆电极。

4.如权利要求3所述的质量分析装置,其特征在于,

所述N极的配置的中心轴与所述四极的配置的中心轴平行且不位于一条直线上,

所述离子输送光学系统根据所述第1直流电压与所述第2直流电压的差,使离子在其中途向与所述两个中心轴正交的方向偏转。

5.如权利要求1所述的质量分析装置,其特征在于,

所述N极的配置的中心轴与所述四极的配置的中心轴位于一条直线上。

6.如权利要求1所述的质量分析装置,其特征在于,

所述N为6~12的范围的偶数。

7.如权利要求7所述的质量分析装置,其特征在于,

在将试样成分于大气压气氛中离子化的离子化室与配设有质量分离部并被保持为高真空气氛的高真空室之间,具有1个以上的中间真空室,

在所述离子化室的下一级的中间真空室内配设有所述N根杆电极。

8.如权利要求7所述的质量分析装置,其特征在于,

在将试样成分于大气压气氛中离子化的离子化室与配设有质量分离部并被保持为高真空气氛的高真空室之间,具有2个以上的中间真空室,

在所述离子化室的下两级的中间真空室内配设有所述N根杆电极。

9.如权利要求7所述的质量分析装置,其特征在于,

具有使离子与规定的气体接触而解离的碰撞池,

在所述碰撞池内配设有所述N根杆电极。

10.如权利要求7所述的质量分析装置,其特征在于,

具有使离子与规定的气体反应的反应池,

在所述反应池内配设有所述N根杆电极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社岛津制作所,未经株式会社岛津制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880099060.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top